1, Վակուումային իոնային ծածկույթի տեխնոլոգիայի սկզբունքը
Օգտագործելով վակուումային աղեղի արտանետման տեխնոլոգիան վակուումային խցիկում, աղեղային լույս է առաջանում կաթոդի նյութի մակերեսի վրա՝ առաջացնելով ատոմների և իոնների ձևավորում կաթոդի նյութի վրա:Էլեկտրական դաշտի ազդեցության տակ ատոմը և իոնային ճառագայթները մեծ արագությամբ ռմբակոծում են աշխատանքային մասի մակերեսը որպես անոդ:Միևնույն ժամանակ, վակուումային խցիկ է ներմուծվում ռեակցիոն գազ, և աշխատանքային մասի մակերեսին ձևավորվում է գերազանց հատկություններով ծածկույթի շերտ:
2, Վակուումային իոնային ծածկույթի բնութագրերը
(1) ծածկույթի շերտի լավ կպչունություն, ֆիլմի շերտը հեշտ չէ ընկնել:
(2) Լավ փաթաթված ծածկույթի շուրջ և բարելավված մակերեսային ծածկույթ:
(3) ծածկույթի շերտի լավ որակ:
(4) Բարձր նստեցման արագություն և ֆիլմի արագ ձևավորում:
(5) Ծածկույթի համար հարմար ենթաշերտի նյութերի և ֆիլմերի նյութերի լայն տեսականի
Լայնածավալ բազմալարային մագնետրոնային հակամատնահետքերի ինտեգրված ծածկույթի սարքավորում
Մատնահետքերի դեմ մագնետրոնային ծածկույթի մեքենան ընդունում է միջին հաճախականության մագնետրոն ցրման, բազմալար իոնների և AF տեխնոլոգիայի համադրություն, որը լայնորեն օգտագործվում է ապարատային արդյունաբերության, սպասքի տեխնիկայի, տիտանի չժանգոտվող պողպատից ափսեի, չժանգոտվող պողպատից լվացարանի և չժանգոտվող պողպատից մեծ ափսեի մշակման մեջ:Այն ունի լավ կպչունություն, կրկնվողություն, թաղանթի շերտի խտություն և միատեսակություն, բարձր ելք և արտադրանքի բարձր եկամտաբերություն:
Հրապարակման ժամանակը՝ նոյ-07-2022