Բարի գալուստ Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
Արդյունաբերության նորություններ
-
Սնամեջ կաթոդային իոնային ծածկույթի գործընթացը
Սնամեջ կաթոդային իոնային ծածկույթի գործընթացը հետևյալն է.2, Աշխատանքային մասի տեղադրում:3、5×10-3Pa տարհանվելուց հետո արգոն գազը արծաթե խողովակից ներմուծվում է ծածկույթի խցիկ, իսկ վակուումի մակարդակը մոտ 100Pa է:4, Միացրեք կողմնակալության հզորությունը:5...Կարդալ ավելին -
Օպտիկական ծածկույթի սարքավորումների շահութաբեր շուկա. ցուցադրում է վաճառքի հսկայական ներուժ
Օպտիկական ծածկույթների արդյունաբերությունը տարիների ընթացքում զգալի աճ է գրանցել՝ շնորհիվ տեխնոլոգիական առաջընթացի, բարձր արդյունավետության օպտիկայի պահանջարկի աճի և արագ ինդուստրացման:Հետևաբար, օպտիկական ծածկույթի սարքավորումների համաշխարհային շուկան վերելք է ապրում՝ հսկայական հնարավորություններ ստեղծելով ընկերությունների համար...Կարդալ ավելին -
Էլեկտրոնային ճառագայթների գոլորշիացման առավելությունների և թերությունների վերլուծություն
Ներկայացնել. Բարակ թաղանթների տեղադրման տեխնոլոգիայի ոլորտում էլեկտրոնային ճառագայթների գոլորշիացումը կարևոր մեթոդ է, որն օգտագործվում է տարբեր ոլորտներում բարձրորակ բարակ թաղանթներ արտադրելու համար:Նրա յուրահատուկ հատկությունները և անզուգական ճշգրտությունը այն դարձնում են գրավիչ ընտրություն հետազոտողների և արտադրողների համար:Այնուամենայնիվ, ինչպես մի...Կարդալ ավելին -
Իոնային ճառագայթների օգնությամբ նստեցում և ցածր էներգիայի իոնային աղբյուր
1. Իոնային ճառագայթների օգնությամբ նստեցումը հիմնականում օգտագործում է ցածր էներգիայի իոնային ճառագայթներ՝ նյութերի մակերևույթի ձևափոխմանն աջակցելու համար:(1) Իոնների օգնությամբ նստվածքի բնութագրերը Ծածկման գործընթացում նստած թաղանթի մասնիկները շարունակաբար ռմբակոծվում են լիցքավորված իոններով իոնային աղբյուրից մակերևույթի մակերեսին...Կարդալ ավելին -
Դեկորատիվ ֆիլմի գույնը
Ֆիլմն ինքնին ընտրողաբար արտացոլում կամ կլանում է պատահական լույսը, իսկ դրա գույնը ֆիլմի օպտիկական հատկությունների արդյունքն է։Բարակ թաղանթների գույնը ստեղծվում է արտացոլված լույսի միջոցով, ուստի անհրաժեշտ է հաշվի առնել երկու ասպեկտ, մասնավորապես կլանման բնութագրերով առաջացած ներքին գույնը ...Կարդալ ավելին -
PVD սկզբունքի ներդրում
ներածություն. Մակերեւութային առաջադեմ ճարտարագիտության աշխարհում Ֆիզիկական գոլորշիների նստեցումը (PVD) ի հայտ է գալիս որպես տարբեր նյութերի արդյունավետությունն ու ամրությունը բարձրացնելու հիմնական մեթոդ:Երբևէ մտածե՞լ եք, թե ինչպես է աշխատում այս նորագույն տեխնիկան:Այսօր մենք խորանում ենք Պ...Կարդալ ավելին -
Օպտիկական ծածկույթի տեխնոլոգիա. ընդլայնված տեսողական էֆեկտներ
Ժամանակակից արագընթաց աշխարհում, որտեղ տեսողական բովանդակությունը մեծ ազդեցություն ունի, օպտիկական ծածկույթի տեխնոլոգիան կարևոր դեր է խաղում տարբեր էկրանների որակի բարելավման գործում:Սմարթֆոններից մինչև հեռուստաէկրաններ, օպտիկական ծածկույթները հեղափոխել են տեսողական բովանդակության ընկալման և ընկալման ձևը:...Կարդալ ավելին -
Մագնետրոնային ցայտող ծածկույթի ուժեղացում աղեղային արտանետման սնուցման միջոցով
Մագնետրոնային ցողման ծածկույթն իրականացվում է փայլի արտանետմամբ, ցածր լիցքաթափման հոսանքի խտությամբ և ցածր պլազմայի խտությամբ ծածկույթի խցիկում:Սա ստիպում է մագնետրոնային ցրման տեխնոլոգիան ունենալ այնպիսի թերություններ, ինչպիսիք են թաղանթի ենթաշերտի միացման ցածր ուժը, մետաղի իոնացման ցածր արագությունը և ցածր նստվածքի...Կարդալ ավելին -
ՌԴ արտանետման օգտագործումը
1. Օգտակար է ցողման և երեսպատման մեկուսիչ ֆիլմի համար:Էլեկտրոդների բևեռականության արագ փոփոխությունը կարող է օգտագործվել մեկուսիչ թիրախները ուղղակիորեն ցրելու համար մեկուսիչ թաղանթներ ստանալու համար:Եթե DC հոսանքի աղբյուրը օգտագործվում է մեկուսիչ թաղանթ ցրելու և նստեցնելու համար, ապա մեկուսիչ թաղանթը կկանգնեցնի դրական իոնների մուտքը...Կարդալ ավելին -
Ցածր ջերմաստիճանի իոնային քիմիական ջերմային բուժում
1. Ավանդական քիմիական ջերմային մշակման ջերմաստիճան Ընդհանուր ավանդական քիմիական ջերմային մշակման գործընթացները ներառում են ածխաջրացում և ազոտավորում, և գործընթացի ջերմաստիճանը որոշվում է ըստ Fe-C փուլային դիագրամի և Fe-N փուլային դիագրամի:Կարբյուրացման ջերմաստիճանը մոտ 930 °C է, իսկ...Կարդալ ավելին -
Վակուումային գոլորշիացման ծածկույթի տեխնիկական բնութագրերը
1. Վակուումային գոլորշիացման ծածկույթի գործընթացը ներառում է ֆիլմի նյութերի գոլորշիացում, գոլորշիների ատոմների տեղափոխում բարձր վակուումում և գոլորշիների ատոմների միջուկացման և աճի պրոցեսը մշակված մասի մակերեսին:2. Վակուումային գոլորշիացման ծածկույթի նստվածքային վակուումային աստիճանը բարձր է, գեներ...Կարդալ ավելին -
Կոշտ ծածկույթների տեսակները
TiN-ը կտրող գործիքների մեջ օգտագործվող ամենավաղ կոշտ ծածկույթն է, որն ունի այնպիսի առավելություններ, ինչպիսիք են բարձր ամրությունը, բարձր կարծրությունը և մաշվածության դիմադրությունը:Այն առաջին արդյունաբերական և լայնորեն օգտագործվող կոշտ ծածկույթի նյութն է, որը լայնորեն օգտագործվում է պատված գործիքների և պատված կաղապարներում:TiN կոշտ ծածկույթը սկզբում տեղադրվել է 1000 ℃...Կարդալ ավելին -
Պլազմայի մակերևույթի ձևափոխման բնութագրերը
Բարձր էներգիայի պլազման կարող է ռմբակոծել և ճառագայթել պոլիմերային նյութերը՝ կոտրելով դրանց մոլեկուլային շղթաները, ձևավորելով ակտիվ խմբեր, մեծացնելով մակերեսային էներգիան և առաջացնելով փորագրություն։Պլազմայի մակերևույթի մշակումը չի ազդում զանգվածային նյութի ներքին կառուցվածքի և կատարողականի վրա, այլ միայն զգալիորեն կ...Կարդալ ավելին -
Փոքր աղեղի իոնային ծածկույթի գործընթացը
Կաթոդիկ աղեղի աղբյուրի իոնային ծածկույթի գործընթացը հիմնականում նույնն է, ինչ ծածկման այլ տեխնոլոգիաները, և որոշ գործողություններ, ինչպիսիք են աշխատանքային մասերի տեղադրումը և վակուումը, այլևս չեն կրկնվում:1. Աշխատանքային մասերի ռմբակոծման մաքրում Նախքան ծածկելը, արգոն գազը ներմուծվում է ծածկույթի խցիկ մի...Կարդալ ավելին -
Աղեղային էլեկտրոնի հոսքի բնութագրերը և գեներացման մեթոդները
1. Լույսի աղեղային էլեկտրոնների հոսքի բնութագրերը Էլեկտրոնների հոսքի, իոնների հոսքի և բարձր էներգիայի չեզոք ատոմների խտությունը աղեղային պլազմայում, որը առաջանում է աղեղի արտանետման արդյունքում, շատ ավելի բարձր է, քան փայլուն արտանետումը:Կան ավելի շատ գազի իոններ և մետաղական իոններ իոնացված, գրգռված բարձր էներգիայի ատոմներ և տարբեր ակտիվ ագրո...Կարդալ ավելին
