Chemical Vapor Deposition (CVD) tegnologie is 'n filmvormende tegnologie wat verwarming, plasmaverbetering, foto-ondersteunde en ander maniere gebruik om gasvormige stowwe soliede films op die substraatoppervlak te laat produseer deur chemiese reaksie onder normale of lae druk.
Oor die algemeen word die reaksie waarin die reaktant 'n gas is en een van die produkte 'n vaste stof is, CVD-reaksie genoem.Daar is baie soorte bedekkings wat deur CVD-reaksie voorberei word, veral in halfgeleierproses.Byvoorbeeld, in die halfgeleierveld is die verfyning van grondstowwe, die voorbereiding van hoë-gehalte halfgeleier enkelkristalfilms en die groei van polikristallyne en amorfe films, van elektroniese toestelle tot geïntegreerde stroombane, alles verwant aan CVD-tegnologie.Daarbenewens word die oppervlakbehandeling van materiale deur mense bevoordeel.Byvoorbeeld, verskeie materiale soos masjinerie, reaktor, lugvaart, mediese en chemiese toerusting kan gebruik word om funksionele bedekkings met korrosiebestandheid, hittebestandheid, slytasieweerstand en oppervlakversterking deur CVD-filmvormingsmetodes volgens hul verskillende vereistes voor te berei.
—— Hierdie artikel word gepubliseer deur Guangdong Zhenhua, 'n vervaardiger vanvakuumbedekkingstoerusting
Postyd: Mar-04-2023