Die warmdraadboogverbeterde plasma chemiese dampneerslagtegnologie gebruik die warmdraadbooggeweer om boogplasma uit te straal, afgekort as die warmdraadboog-PECVD-tegnologie.Hierdie tegnologie is soortgelyk aan die warmdraadbooggeweer-ioonbedekkingstegnologie, maar die verskil is dat die soliede film wat deur warmdraadbooggeweer-ioonbedekking verkry word, die boogligelektronvloei wat deur die warmdraadbooggeweer uitgestraal word, gebruik om die metaal in te verhit en te verdamp. die smeltkroes, terwyl die warmdraadbooglig PECVD gevoed word met reaksiegasse, soos CH4 en H2, wat gebruik word vir die afsetting van diamantfilms.Deur te vertrou op die hoëdigtheid boogontladingsstroom wat deur die warmdraadbooggeweer vrygestel word, word die reaktiewe gasione opgewonde om verskeie aktiewe deeltjies te verkry, insluitend gasione, atoomione, aktiewe groepe, ensovoorts.
In die warmdraadboog-PECVD-toestel is twee elektromagnetiese spoele steeds buite die bedekkingskamer geïnstalleer, wat veroorsaak dat die hoëdigtheid-elektronvloei roteer tydens die beweging na die anode, wat die waarskynlikheid van botsing en ionisasie tussen die elektronvloei en die reaksiegas verhoog .Die elektromagnetiese spoel kan ook in 'n boogkolom konvergeer om die plasmadigtheid van die hele afsettingskamer te verhoog.In boogplasma is die digtheid van hierdie aktiewe deeltjies hoog, wat dit makliker maak om diamantfilms en ander filmlae op die werkstuk neer te sit.
——Hierdie artikel is vrygestel deur Guangdong Zhenhua Technology, avervaardiger van optiese deklaagmasjiene.
Postyd: Mei-05-2023