Plasma direkte polimerisasie proses
Die proses van plasmapolimerisasie is relatief eenvoudig vir beide interne elektrode polimerisasie toerusting en eksterne elektrode polimerisasie toerusting, maar parameter seleksie is belangriker in plasma polimerisasie, want parameters het 'n groter impak op die struktuur en werkverrigting van polimeer films tydens Plasma polimerisasie.
Die operasiestappe vir direkte plasmapolimerisasie is soos volg:
(1) Stofsuig
Die agtergrondvakuum van polimerisasie onder vakuumtoestande moet tot 1.3×10-1Pa gepomp word.Vir polimerisasiereaksies wat spesiale vereistes vir die beheer van suurstof- of stikstofinhoud vereis, is die agtergrondvakuumvereiste selfs hoër.
(2) Ladingsreaksiemonomeer of gemengde gas van draergas en monomeer
Die vakuumgraad is 13-130Pa.Vir plasmapolimerisasie wat werk vereis, moet toepaslike vloeibeheermodus en vloeitempo gekies word, gewoonlik 10.100mL/min.In plasma word monomeermolekules geïoniseer en gedissosieer deur bombardering van energieke deeltjies, wat aktiewe deeltjies soos ione en aktiewe gene tot gevolg het.Die aktiewe deeltjies wat deur plasma geaktiveer word, kan plasmapolimerisasie ondergaan by die raakvlak van gasfase en vaste fase.Die monomeer is die bron van voorloper vir plasmapolimerisasie, en die insetreaksiegas en monomeer moet sekere suiwerheid hê.
(3) Seleksie van opwekkingskragtoevoer
Plasma kan gegenereer word deur gebruik te maak van GS-, hoëfrekwensie-, RF- of mikrogolfkragbronne om 'n plasma-omgewing vir polimerisasie te verskaf.Die keuse van kragtoevoer word bepaal op grond van die vereistes vir die struktuur en werkverrigting van die polimeer.
(4) Keuse van ontladingsmodus
Vir polimeervereistes kan plasmapolimerisasie twee ontladingsmodusse kies: deurlopende ontlading of pulsontlading.
(5) Seleksie van ontladingsparameters
Wanneer plasmapolimerisasie uitgevoer word, moet ontladingsparameters in ag geneem word uit plasmaparameters, polimeer-eienskappe en struktuurvereistes.Die grootte van die toegediende krag tydens polimerisasie word bepaal deur die volume van die vakuumkamer, elektrodegrootte, monomeervloeitempo en struktuur, polimerisasietempo en polimeerstruktuur en werkverrigting.Byvoorbeeld, as die reaksiekamervolume 1L is en RF-plasmapolimerisasie word aangeneem, sal die ontladingskrag in die reeks van 10~30W wees.Onder sulke toestande kan die plasma wat gegenereer word, saamvoeg om 'n dun film op die oppervlak van die werkstuk te vorm.Die groeitempo van Plasma-polimerisasiefilm wissel met kragtoevoer, monomeertipe en vloeitempo, en prosestoestande.Oor die algemeen is die groeitempo 100nm/min ~ 1um/min.
(6) Parametermeting in Plasmapolimerisasie
Die plasmaparameters en prosesparameters wat gemeet moet word in Plasmapolimerisasie sluit in: ontladingsspanning, ontladingsstroom, ontladingsfrekwensie, Elektrontemperatuur, digtheid, tipe reaksiegroep en konsentrasie, ens.
——Hierdie artikel is vrygestel deur Guangdong Zhenhua Technology, avervaardiger van optiese deklaagmasjiene.
Postyd: Mei-05-2023