ما هو مبدأ العمل لآلة الطلاء الأيوني

طلاء أيونآلة نشأت من النظرية التي اقترحها DM Mattox في الستينيات ، وبدأت التجارب المقابلة في ذلك الوقت ؛حتى عام 1971 ، نشر تشامبرز وآخرون تقنية الطلاء الأيوني لشعاع الإلكترون ؛تمت الإشارة إلى تقنية الطلاء بالتبخير التفاعلي (ARE) في تقرير Bunshah في عام 1972 ، عندما تم إنتاج أنواع الأفلام فائقة الصلابة مثل TiC و TiN ؛أيضًا في عام 1972 ، تبنى Smith and Molley تقنية الكاثود المجوف في عملية الطلاء.بحلول الثمانينيات من القرن الماضي ، وصل طلاء الأيونات في الصين أخيرًا إلى مستوى التطبيق الصناعي ، وظهرت عمليات الطلاء مثل تصفيح الأيونات متعدد الأقواس والطلاء الأيوني بتفريغ القوس على التوالي.

عملية العمل الكاملة لطلاء الفراغ الأيوني هي كما يلي:مضخةغرفة الفراغ ، وبعد ذلكانتظرضغط الفراغ إلى 4X10 ⁻ ³ Paأو أفضل، من الضروري توصيل مصدر طاقة عالي الجهد وبناء منطقة بلازما منخفضة الحرارة لغاز تفريغ الجهد المنخفض بين الركيزة والمبخر.قم بتوصيل قطب الركيزة بجهد عالي سلبي 5000 فولت تيار مستمر لتشكيل تفريغ توهج للكاثود.يتم إنشاء أيونات الغاز الخامل بالقرب من منطقة التوهج السالب.يدخلون منطقة الكاثود المظلمة ويتم تسريعهم بواسطة المجال الكهربائي ويقصفون سطح الركيزة.هذه عملية تنظيف ، ثم تدخل في عملية الطلاء.من خلال تأثير التسخين بالقصف ، تتبخر بعض مواد الطلاء.تدخل منطقة البلازما إلى البروتونات ، وتصطدم بالإلكترونات وأيونات الغازات الخاملة ، وجزء صغير منها يتأين ، وهذه الأيونات المتأينة ذات الطاقة العالية تقصف سطح الفيلم وتحسن جودة الفيلم إلى حد ما.

مبدأ طلاء أيونات الفراغ هو: في غرفة التفريغ ، باستخدام ظاهرة تفريغ الغاز أو الجزء المتأين من المادة المتبخرة ، تحت قصف أيونات المواد المتبخرة أو أيونات الغاز ، ترسب في نفس الوقت هذه المواد المتبخرة أو المواد المتفاعلة على الركيزة للحصول على غشاء رقيق.الطلاء الأيونيآلةيجمع بين التبخر بالفراغ وتكنولوجيا البلازما وتفريغ توهج الغاز ، مما لا يحسن جودة الفيلم فحسب ، بل يوسع أيضًا نطاق تطبيق الفيلم.مزايا هذه العملية هي حيود قوي ، التصاق جيد للفيلم ، ومواد طلاء مختلفة.تم اقتراح مبدأ الطلاء الأيوني لأول مرة بواسطة DM Mattox.هناك العديد من أنواع الطلاء الأيوني.النوع الأكثر شيوعًا هو تسخين التبخر ، بما في ذلك تسخين المقاومة ، تسخين شعاع الإلكترون ، تسخين شعاع الإلكترون بالبلازما ، التسخين بالحث عالي التردد وطرق التسخين الأخرى.