CVD örtük texnologiyası aşağıdakı xüsusiyyətlərə malikdir:
1. CVD avadanlığının texnoloji əməliyyatı nisbətən sadə və çevikdir və o, müxtəlif nisbətlərdə tək və ya kompozit filmlər və lehimli filmlər hazırlaya bilər;
2. CVD örtüyü geniş tətbiq sahəsinə malikdir və müxtəlif metal və ya metal film örtükləri hazırlamaq üçün istifadə edilə bilər;
3. Dəqiqədə bir neçə mikrondan yüzlərlə mikrona qədər olan çökmə sürətinə görə yüksək istehsal səmərəliliyi;
4. PVD üsulu ilə müqayisədə, CVD daha yaxşı difraksiya performansına malikdir və yivlər, örtülmüş dəliklər və hətta kor çuxur strukturları kimi mürəkkəb formalı substratları örtmək üçün çox uyğundur.Kaplama yaxşı kompaktlığa malik bir filmə çəkilə bilər.Filmin formalaşması zamanı yüksək temperatur və film substratının interfeysində güclü yapışma səbəbindən film təbəqəsi çox möhkəmdir.
5. Radiasiyanın vurduğu zərər nisbətən azdır və MOS inteqral sxem prosesləri ilə birləşdirilə bilər.
——Bu məqalə Guangdong Zhenhua, avakuum örtük maşın istehsalçısı
Göndərmə vaxtı: 29 mart 2023-cü il