Vakuum buxarlanma örtüyünün işinə təsir edən amillər

1. Buxarlanma dərəcəsi buxarlanmış örtünün xüsusiyyətlərinə təsir edəcəkdir

Buxarlanma sürəti yığılmış filmə böyük təsir göstərir.Aşağı çökmə sürəti ilə əmələ gələn örtük strukturu boş və böyük hissəciklərin çökdürülməsi asan olduğundan, örtük strukturunun yığcamlığını təmin etmək üçün daha yüksək buxarlanma dərəcəsini seçmək çox təhlükəsizdir.Vakuum kamerasında qalıq qazın təzyiqi sabit olduqda, substratın bombardman sürəti sabit bir dəyərdir.Buna görə, daha yüksək çökmə sürəti seçildikdən sonra çökdürülmüş filmdə olan qalıq qaz azalacaq və beləliklə, qalıq qaz molekulları və buxarlanmış film hissəcikləri arasında kimyəvi reaksiya azalacaq.Beləliklə, yığılmış filmin təmizliyi yaxşılaşdırıla bilər.Qeyd etmək lazımdır ki, çökmə sürəti çox sürətli olarsa, bu, filmin daxili gərginliyini artıra bilər, plyonkada qüsurların artmasına və hətta plyonkanın qopmasına səbəb ola bilər.Xüsusilə, reaktiv buxarlanma ilə örtülmə prosesində, reaksiya qazının buxarlanma filmi materialının hissəcikləri ilə tam reaksiya verməsi üçün daha aşağı çökmə dərəcəsini seçə bilərsiniz.Əlbəttə ki, müxtəlif materiallar müxtəlif buxarlanma dərəcələrini seçirlər.Praktik bir nümunə olaraq – əks etdirici filmin çökməsi, Əgər filmin qalınlığı 600×10-8 sm və buxarlanma müddəti 3 saniyədirsə, əks etdirmə qabiliyyəti 93% təşkil edir.Bununla belə, eyni qalınlıq şəraitində buxarlanma sürəti aşağı salınarsa, filmin çökdürülməsini tamamlamaq üçün 10 dəqiqə vaxt lazımdır.Bu zaman film qalınlığı eynidir.Bununla belə, əks etdirmə qabiliyyəti 68%-ə düşüb.

2. Subtrat temperaturu buxarlanma örtüyünə təsir edəcək

Substratın temperaturu buxarlanma örtüyünə böyük təsir göstərir.Yüksək substrat temperaturunda substrat səthinə adsorbsiya edilmiş qalıq qaz molekulları asanlıqla çıxarılır.Xüsusilə su buxarının molekullarının aradan qaldırılması daha vacibdir.Üstəlik, daha yüksək temperaturda, fiziki adsorbsiyadan kimyəvi adsorbsiyaya çevrilməni təşviq etmək, beləliklə, hissəciklər arasında bağlama qüvvəsini artırmaq təkcə asan deyil.Bundan əlavə, buxar molekullarının yenidən kristallaşma temperaturu ilə substratın temperaturu arasındakı fərqi də azalda bilər, beləliklə, film əsaslı interfeysdəki daxili gərginliyi azaldır və ya aradan qaldırır.Bundan əlavə, substratın temperaturu filmin kristal vəziyyəti ilə əlaqəli olduğundan, alt təbəqənin aşağı temperaturu və ya qızdırılmaması şəraitində amorf və ya mikrokristal örtüklər yaratmaq çox vaxt asandır.Əksinə, temperatur yüksək olduqda, kristal örtük yaratmaq asandır.Substratın temperaturunun artırılması da örtünün mexaniki xüsusiyyətlərini yaxşılaşdırmaq üçün əlverişlidir.Təbii ki, örtükün buxarlanmasının qarşısını almaq üçün substratın temperaturu çox yüksək olmamalıdır.

3. Vakuum kamerasında qalıq qaz təzyiqi filmin xüsusiyyətlərinə təsir edəcəkdir

Vakuum kamerasındakı qalıq qazın təzyiqi membranın işinə böyük təsir göstərir.Çox yüksək təzyiqə malik qalıq qaz molekulları nəinki buxarlanan hissəciklərlə toqquşmaq asan deyil, bu da substratda olan insanların kinetik enerjisini azaldacaq və filmin yapışmasına təsir edəcəkdir.Bundan əlavə, çox yüksək qalıq qaz təzyiqi filmin təmizliyinə ciddi təsir edəcək və örtüyün işini azaldır.

4. Buxarlanma temperaturunun buxarlanma örtüyünə təsiri

Buxarlanma temperaturunun membran performansına təsiri buxarlanma sürətinin temperaturla dəyişməsi ilə göstərilir.Buxarlanma temperaturu yüksək olduqda, buxarlanma istiliyi azalacaq.Membran materialı buxarlanma temperaturundan yuxarı buxarlanırsa, temperaturun bir qədər dəyişməsi belə membran materialının buxarlanma sürətinin kəskin dəyişməsinə səbəb ola bilər.Buna görə də, buxarlanma mənbəyi qızdırıldıqda böyük temperatur gradientinin qarşısını almaq üçün filmin çökməsi zamanı buxarlanma temperaturunu dəqiq idarə etmək çox vacibdir.Sublimasiya etmək asan olan film materialı üçün materialın özünü buxarlanma və digər tədbirlər üçün qızdırıcı kimi seçmək də çox vacibdir.

5. Substratın və örtük kamerasının təmizlənmə vəziyyəti örtük performansına təsir edəcəkdir

Substratın və örtük kamerasının təmizliyinin örtüyün işinə təsirini nəzərə almamaq olmaz.Bu, yalnız qoyulmuş filmin təmizliyinə ciddi təsir göstərməyəcək, həm də filmin yapışmasını azaldır.Buna görə də, substratın təmizlənməsi, vakuum örtük kamerasının və onunla əlaqəli komponentlərin (məsələn, substrat çərçivəsi) təmizlənməsi və səthin qazdan təmizlənməsi vakuum örtük prosesində əvəzedilməz proseslərdir.