1. Thevakuum buxarlanma örtüyüprosesə film materiallarının buxarlanması, yüksək vakuumda buxar atomlarının daşınması və iş parçasının səthində buxar atomlarının nüvələşməsi və böyüməsi prosesi daxildir.
2. Vakuum buxarlanma örtüyünün çökmə vakuum dərəcəsi yüksəkdir, ümumiyyətlə 10-510-3Pa. Qaz molekullarının sərbəst yolu 1 ~ 10 m böyüklüyünə malikdir, bu, buxarlanma mənbəyindən iş parçasına qədər olan məsafədən çox daha böyükdür, bu məsafə buxarlanma məsafəsi adlanır, ümumiyyətlə 300 ~ 800 mm.Kaplama hissəcikləri qaz molekulları və buxar atomları ilə çətin toqquşur və iş parçasına çatır.
3. Vakuumlu buxarlanma örtük təbəqəsi sarılmış örtük deyil və buxar atomları yüksək vakuum altında birbaşa iş parçasına keçir.Yalnız iş parçasının buxarlanma mənbəyinə baxan tərəfi film təbəqəsini əldə edə bilər, iş parçasının yan və arxa tərəfi isə çətin ki, film təbəqəsini ala bilir və film təbəqəsi zəif örtüklüdür.
4. Vakuum buxarlanma örtük təbəqəsinin hissəciklərinin enerjisi azdır, iş parçasına çatan enerji isə buxarlanmanın apardığı istilik enerjisidir.Vakuum buxarlanma örtüyü zamanı iş parçası qərəzli olmadığından, metal atomları buxarlanma zamanı yalnız buxarlanma istiliyinə güvənirlər, buxarlanma temperaturu 1000~2000 °C, daşınan enerji isə 0,1~0,2eV-ə bərabərdir, beləliklə film hissəcikləri azdır, plyonka təbəqəsi ilə matris arasında bağlanma qüvvəsi kiçikdir və mürəkkəb örtük yaratmaq çətindir.
5. Vakuum buxarlanma örtük təbəqəsi incə quruluşa malikdir.Vakuum buxarlanma örtük prosesi yüksək vakuum altında formalaşır və buxardakı film hissəcikləri əsasən atom miqyasındadır və iş parçasının səthində incə bir nüvə meydana gətirir.
Göndərmə vaxtı: 14 iyun 2023-cü il