PVD örtük nazik film materiallarının hazırlanması üçün əsas texnologiyalardan biridir
Film təbəqəsi məhsulun səthinə metal tekstura və zəngin rəng bəxş edir, aşınma müqavimətini və korroziyaya davamlılığı artırır və xidmət müddətini uzadır.
Püskürtmə və vakuum buxarlanma iki ən əsas PVD örtük üsuludur.
1, Tərif
Fiziki buxar çökdürülməsi bir növ fiziki buxar reaksiyasının böyüməsi üsuludur.Çökmə prosesi vakuum və ya aşağı təzyiqli qaz boşalma şəraitində, yəni aşağı temperaturlu plazmada həyata keçirilir.
Kaplamanın material mənbəyi bərk materialdır.“Buxarlanma və ya püskürtmə”dən sonra hissənin səthində əsas materialın performansından tamamilə fərqli yeni bərk material örtüyü əmələ gəlir.
2, PVD örtüyünün əsas prosesi
1. Xammaldan hissəciklərin emissiyası (buxarlanma, sublimasiya, püskürtmə və parçalanma yolu ilə);
2. Hissəciklər substrata daşınır (hissəciklər bir-biri ilə toqquşur, nəticədə ionlaşma, rekombinasiya, reaksiya, enerji mübadiləsi və hərəkət istiqaməti dəyişir);
3. Hissəciklər kondensasiya olunur, nüvələşir, böyüyür və substratda plyonka əmələ gətirir.
Göndərmə vaxtı: 31 yanvar 2023-cü il