Magnetron püskürtmə və katod çox qövslü ion örtüyünün kompozit örtük avadanlığı ayrıca və eyni vaxtda işləyə bilər;təmiz metal plyonka, metal mürəkkəb film və ya kompozit plyonka qoyula və hazırlana bilər;bir təbəqəli film və çox qatlı kompozit film ola bilər.
Onun üstünlükləri aşağıdakılardır:
O, təkcə müxtəlif ion örtüklərinin üstünlüklərini birləşdirmir və müxtəlif tətbiq sahələri üçün nazik təbəqənin hazırlanmasını və çökdürülməsini nəzərə alır, həm də eyni vakuumda çox qatlı monolit plyonkaların və ya çox qatlı kompozit plyonkaların çökdürülməsinə və hazırlanmasına imkan verir. bir anda örtük otağı.
Depozitli film təbəqələrinin tətbiqi üçün onun texnologiyaları müxtəlif formalarda geniş istifadə olunur, tipik olanlar aşağıdakılardır:
(1) Qeyri-tarazlıq maqnitron püskürtmə və katod ion örtük texnologiyasının birləşməsi.
Onun cihazı aşağıdakı kimi göstərilir.Bu, həm alət örtüklü mürəkkəb film, həm də dekorativ film örtüyü üçün uyğun olan sütunlu maqnetron hədəfi və planar katod qövs ion örtüyünün mürəkkəb örtük avadanlığıdır.Alət örtüyü üçün katodik qövs ion örtüyü əvvəlcə əsas təbəqənin örtüyü üçün istifadə olunur, sonra isə sütun maqnetron hədəfi yüksək dəqiqlikli emal alətinin səthi filmini əldə etmək üçün nitridin və digər film təbəqələrinin çökməsi üçün istifadə olunur.
Dekorativ örtük üçün TiN və ZrN dekorativ filmləri əvvəlcə katod qövs örtüyü ilə yatırıla bilər, sonra isə maqnetron hədəfləri istifadə edərək metalla aşqarlana bilər və dopinq effekti çox yaxşıdır.
(2) Qoşa müstəvi maqnetron və sütun katod qövs ion örtük texnikasının birləşməsi.Cihaz aşağıdakı kimi göstərilir.Bu, orta tezlikli enerji təchizatı ilə əlaqəli iki yan-yana əkiz hədəfləri birləşdirən qabaqcıl əkiz hədəf texnologiyasından istifadə olunur, bu, yalnız DC püskürtmə, yanğın və digər çatışmazlıqların hədəf zəhərlənməsini aradan qaldırmır;və Al203, SiO2 oksidi keyfiyyətli film qoya bilər ki, örtülmüş hissələrin oksidləşmə müqaviməti artdı və yaxşılaşdı.Vakuum kamerasının mərkəzində quraşdırılmış sütunlu çox qövslü hədəf, hədəf material Ti və Zr istifadə edilə bilər, yalnız yüksək çox qövslü dissosiasiya sürətinin, çökmə sürətinin üstünlüklərini qorumaq üçün deyil, həm də "damcıları" effektiv şəkildə azalda bilər. kiçik təyyarə çox qövs hədəf çökmə prosesi, metal filmlər, mürəkkəb filmlər aşağı gözeneklilik depozit və hazırlamaq bilər.Əgər Al və Si, periferiyada quraşdırılmış əkiz planar maqnetron hədəfləri üçün hədəf material kimi istifadə edilərsə, Al203 və ya Si0 metal keramika filmləri çökdürülə və hazırlana bilər.Bundan əlavə, periferiyada çox qövslü buxarlanma mənbəyinin çoxsaylı kiçik təyyarələri quraşdırıla bilər və onun hədəf materialı Cr və ya Ni ola bilər və metal plyonkalar və çox qatlı kompozit plyonkalar yerləşdirilə və hazırlana bilər.Buna görə də, bu kompozit örtük texnologiyası bir çox tətbiqi olan kompozit örtük texnologiyasıdır.
Göndərmə vaxtı: 08 noyabr 2022-ci il