Тэхналогія хімічнага асаджэння з паравай фазы (CVD) - гэта тэхналогія ўтварэння плёнкі, якая выкарыстоўвае нагрэў, плазменнае ўзмацненне, фотаадаптар і іншыя спосабы, якія прымушаюць газападобныя рэчывы ствараць цвёрдыя плёнкі на паверхні падкладкі ў выніку хімічнай рэакцыі пры нармальным або нізкім ціску.
Звычайна рэакцыя, у якой рэагентам з'яўляецца газ, а адным з прадуктаў з'яўляецца цвёрдае рэчыва, называецца CVD-рэакцыяй.Існуе шмат відаў пакрыццяў, атрыманых з дапамогай CVD-рэакцыі, асабліва ў паўправадніковых працэсах.Напрыклад, у галіне паўправаднікоў перапрацоўка сыравіны, падрыхтоўка высакаякасных паўправадніковых монакрышталічных плёнак і вырошчванне полікрышталічных і аморфных плёнак, ад электронных прылад да інтэгральных схем, усё звязана з тэхналогіяй CVD.Акрамя таго, людзі любяць апрацоўваць паверхні матэрыялаў.Напрыклад, розныя матэрыялы, такія як машыны, рэактар, аэракасмічнае, медыцынскае і хімічнае абсталяванне, могуць быць выкарыстаны для падрыхтоўкі функцыянальных пакрыццяў з устойлівасцю да карозіі, тэрмаўстойлівасцю, зносаўстойлівасцю і ўмацаваннем паверхні метадам фарміравання плёнкі CVD у адпаведнасці з іх рознымі патрабаваннямі.
—— Гэты артыкул апублікаваны вытворцам Guangdong Zhenhuaабсталяванне для вакуумнага нанясення пакрыццяў
Час публікацыі: 4 сакавіка 2023 г