Процесът на йонно покритие с източник на малка дъга

Процесът на йонно покритие с източник на катодна дъга е основно същият като другите технологии за нанасяне на покритие и някои операции като инсталиране на детайли и вакуумиране вече не се повтарят.

1. Бомбардировъчно почистване на детайли

Преди нанасяне на покритие, в камерата за нанасяне на покритие се въвежда газ аргон с вакуум от 2×10-2Pa.

Включете захранването с импулсно отклонение с работен цикъл от 20% и отклонение на детайла 800-1000V.

Когато захранването на дъгата е включено, се генерира електродъгов светлинен разряд със студено поле, който излъчва голямо количество електронен ток и ток от титанов йон от източника на дъгата, образувайки плазма с висока плътност.Титаниевият йон ускорява инжектирането си в детайла под отрицателно високо налягане на отклонение, приложено към детайла, бомбардирайки и разпръсквайки остатъчния газ и замърсители, адсорбирани върху повърхността на детайла, и почиствайки и пречиствайки повърхността на детайла;В същото време хлорният газ в камерата за покритие се йонизира от електрони, а аргоновите йони ускоряват бомбардирането на повърхността на детайла.

Следователно ефектът на почистване на бомбардировката е добър.Само около 1 минута почистване с бомбардиране може да почисти детайла, което се нарича „бомбардиране с основна дъга“.Поради голямата маса на титаниеви йони, ако се използва малък източник на дъга за бомбардиране и почистване на детайла твърде дълго, температурата на детайла е склонна към прегряване и ръбът на инструмента може да стане мек.В общото производство малките дъгови източници се включват един по един отгоре надолу и всеки малък дъгов източник има време за почистване на бомбардировка от около 1 минута.

（1）Долен слой с покритие от титан

За да се подобри адхезията между филма и субстрата, слой от чист титанов субстрат обикновено се покрива преди покриването на титанов нитрид.Регулирайте нивото на вакуума на 5×10-2-3×10-1Pa, регулирайте напрежението на отклонение на детайла на 400-500V и регулирайте работния цикъл на импулсното захранване на отклонение на 40%~50%.Все още се запалват малки източници на дъга един по един, за да се генерира дъгов разряд със студено поле.Поради намаляването на отрицателното напрежение на отклонение на детайла, енергията на титановите йони намалява.След достигане на детайла ефектът на разпръскване е по-малък от ефекта на отлагане и върху детайла се формира титанов преходен слой, за да се подобри силата на свързване между слоя твърд филм от титанов нитрид и субстрата.Този процес е и процес на нагряване на детайла.Когато целта от чист титан се разреди, светлината в плазмата е лазурно синя.

1. Покритие с твърд филм с амоняк

Регулирайте степента на вакуум на 3×10^-1-5Pa, настройте напрежението на отклонение на детайла на 100-200V и регулирайте работния цикъл на захранването на импулсното отклонение на 70%~80%.След като се въведе азот, титанът е комбинирана реакция с плазмата на дъговия разряд за отлагане на твърд филм от титанов нитрид.В този момент светлината на плазмата във вакуумната камера е вишневочервена.Ако C₂H₂, О₂и т.н. се въвеждат TiCN, TiO₂и т.н. могат да се получат филмови слоеве.

– Тази статия е публикувана от Guangdong Zhenhua, aпроизводител на машини за вакуумно покритие