Theвакуумно покритиеМашинният процес е разделен на: покритие чрез вакуумно изпаряване, покритие чрез вакуумно разпръскване и вакуумно йонно покритие.
1、Покритие чрез вакуумно изпаряване
При условия на вакуум, накарайте материала да се изпари, като метал, метална сплав и т.н., след което ги нанесете върху повърхността на субстрата, методът на нанасяне на покритие чрез изпаряване често използва съпротивително нагряване и след това бомбардиране с електронен лъч на покриващия материал, направете ги изпарява се в газова фаза, след което се отлага върху повърхността на субстрата, исторически погледнато, вакуумното отлагане на пари е по-ранната технология, използвана в PVD метода.
2、разпръскващо покритие
Газът се подлага на тлеещ разряд при условия на вакуум, изпълнен с (Ar). В този момент атомите на аргон (Ar) се превръщат в азотни йони (Ar), йоните се ускоряват от силата на електрическото поле и бомбардират катодната цел, която е направен от покриващия материал, мишената ще бъде разпръсната и отложена върху повърхността на субстрата. Попадащите йони в разпръснато покритие, обикновено получени чрез тлеещ разряд, са в диапазона от 10-2pa до 10Pa，Така че разпръснатите частици са лесни за сблъсък с газовите молекули във вакуумната камера, когато летят към субстрата, правейки посоката на движение произволна и отложеният филм лесно да бъде еднороден.
3、Йонно покритие
При вакуумни условия, При вакуумни условия, Използва се определена техника на плазмена йонизация за частично йонизиране на атомите на покриващия материал в йони. В същото време се произвеждат много високоенергийни неутрални атоми, които са отрицателно предубедени към субстрата. По този начин йони се отлагат върху повърхността на субстрата под дълбоко отрицателно отклонение, за да образуват тънък филм.
Време на публикуване: 23 март 2023 г