1、Принципът на технологията за вакуумно йонно покритие
Използвайки технология за вакуумно дъгово разреждане във вакуумна камера, дъгова светлина се генерира върху повърхността на катодния материал, което води до образуване на атоми и йони върху катодния материал.Под действието на електрическо поле атомните и йонните лъчи бомбардират повърхността на детайла като анод с висока скорост.В същото време във вакуумната камера се въвежда реакционен газ и върху повърхността на детайла се образува покривен слой с отлични свойства.
2、Характеристики на вакуумно йонно покритие
(1) Добра адхезия на покриващия слой, филмовият слой не пада лесно.
(2)Добро обвиващо покритие и подобрено повърхностно покритие.
(3) Добро качество на покриващия слой.
(4) Висока скорост на отлагане и бързо образуване на филм.
(5) Широка гама от подходящи субстратни материали и филмови материали за покритие
Мащабно многодъгово магнетронно интегрирано оборудване за нанасяне на покритие против пръстови отпечатъци
Машината за магнетронно разпрашващо покритие против пръстови отпечатъци използва комбинация от средночестотно магнетронно разпрашване, многодъгова йонна технология и AF технология, която се използва широко в хардуерната индустрия, хардуер за съдове, титаниева плоча от неръждаема стомана, мивка от неръждаема стомана и обработка на големи плочи от неръждаема стомана.Има добра адхезия, повторяемост, плътност и еднородност на филмовия слой, висока производителност и висок добив на продукта.
Време на публикуване: 07 ноември 2022 г