ম্যাগনেট্রন স্পুটারিং এবং ক্যাথোডিক মাল্টি-আর্ক আয়ন আবরণের যৌগিক আবরণ সরঞ্জাম পৃথকভাবে এবং একই সাথে কাজ করতে পারে;জমা এবং বিশুদ্ধ ধাতব ফিল্ম, ধাতব যৌগ ফিল্ম বা যৌগিক ফিল্ম প্রস্তুত করা যেতে পারে;ফিল্মের একক স্তর এবং একটি মাল্টি-লেয়ার কম্পোজিট ফিল্ম হতে পারে।
এর সুবিধাগুলি নিম্নরূপ:
এটি কেবলমাত্র বিভিন্ন আয়ন আবরণের সুবিধাগুলিকে একত্রিত করে না এবং প্রয়োগের বিভিন্ন ক্ষেত্রের জন্য পাতলা ফিল্মের প্রস্তুতি এবং জমাকে বিবেচনা করে, তবে একই ভ্যাকুয়ামে মাল্টি-লেয়ার মনোলিথিক ফিল্ম বা মাল্টি-লেয়ার কম্পোজিট ফিল্মগুলি জমা ও প্রস্তুত করার অনুমতি দেয়। এক সময়ে লেপ চেম্বার।
জমাকৃত ফিল্ম স্তরগুলির অ্যাপ্লিকেশনগুলি ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত হয় এর প্রযুক্তিগুলি বিভিন্ন ফর্মের মধ্যে রয়েছে, সাধারণগুলি নিম্নরূপ:
(1) নন-ইকুইলিব্রিয়াম ম্যাগনেট্রন স্পুটারিং এবং ক্যাথোডিক আয়ন প্লেটিং প্রযুক্তির যৌগ।
এর ডিভাইসটি অনুসরণ হিসাবে দেখানো হয়েছে।এটি কলামার ম্যাগনেট্রন টার্গেট এবং প্ল্যানার ক্যাথোডিক আর্ক আয়ন আবরণের একটি যৌগিক আবরণ সরঞ্জাম, যা টুল আবরণ যৌগিক ফিল্ম এবং আলংকারিক ফিল্ম আবরণ উভয়ের জন্য উপযুক্ত।টুল লেপের জন্য, ক্যাথোডিক আর্ক আয়ন আবরণটি প্রথমে বেস লেয়ার লেপের জন্য ব্যবহার করা হয় এবং তারপরে কলাম ম্যাগনেট্রন টার্গেট ব্যবহার করা হয় নাইট্রাইড এবং অন্যান্য ফিল্ম স্তর জমা করার জন্য একটি উচ্চ-নির্ভুলতা প্রক্রিয়াকরণ টুল পৃষ্ঠের ফিল্ম পাওয়ার জন্য।
আলংকারিক আবরণের জন্য, TiN এবং ZrN আলংকারিক ছায়াছবি প্রথমে ক্যাথোডিক আর্ক লেপ দ্বারা জমা করা যেতে পারে, এবং তারপর ম্যাগনেট্রন লক্ষ্যবস্তু ব্যবহার করে ধাতু দিয়ে ডোপ করা যেতে পারে এবং ডোপিং প্রভাব খুব ভাল।
(2) যৌগ সমতল ম্যাগনেট্রন এবং কলাম ক্যাথোড আর্ক আয়ন আবরণ কৌশল।ডিভাইস অনুসরণ হিসাবে দেখানো হয়.এটি উন্নত টুইন টার্গেট প্রযুক্তি ব্যবহার করা হয়, যখন দুটি পাশ-পাশের যমজ লক্ষ্যগুলি মাঝারি ফ্রিকোয়েন্সি পাওয়ার সাপ্লাইয়ের সাথে সংযুক্ত থাকে, এটি শুধুমাত্র ডিসি স্পুটারিং, আগুন এবং অন্যান্য ত্রুটিগুলির লক্ষ্য বিষক্রিয়াকে অতিক্রম করে না;এবং Al203, SiO2 অক্সাইড মানের ফিল্ম জমা দিতে পারে, যাতে প্রলিপ্ত অংশগুলির অক্সিডেশন প্রতিরোধ ক্ষমতা বৃদ্ধি পায় এবং উন্নত হয়।ভ্যাকুয়াম চেম্বারের কেন্দ্রে কলামার মাল্টি-আর্ক টার্গেট ইনস্টল করা হয়েছে, টার্গেট উপাদানটি ব্যবহার করা যেতে পারে Ti এবং Zr, শুধুমাত্র উচ্চ মাল্টি-আর্ক ডিসোসিয়েশন রেট, ডিপোজিশন রেটের সুবিধাগুলি বজায় রাখতে, কিন্তু কার্যকরভাবে "ফোঁটা" কমাতে পারে। ছোট সমতল মাল্টি-আর্ক টার্গেট ডিপোজিশনের প্রক্রিয়া, ধাতব ছায়াছবি, যৌগিক ছায়াছবিগুলির কম ছিদ্র জমা এবং প্রস্তুত করতে পারে।যদি পরিধিতে স্থাপিত টুইন প্ল্যানার ম্যাগনেট্রন লক্ষ্যবস্তুগুলির লক্ষ্য উপকরণ হিসাবে Al এবং Si ব্যবহার করা হয় তবে Al203 বা Si0 ধাতু-সিরামিক ফিল্মগুলি জমা এবং প্রস্তুত করা যেতে পারে।উপরন্তু, মাল্টি-আর্ক বাষ্পীভবন উৎসের একাধিক ছোট প্লেন পেরিফেরিতে ইনস্টল করা যেতে পারে এবং এর লক্ষ্যবস্তু Cr বা Ni হতে পারে এবং ধাতব ফিল্ম এবং মাল্টিলেয়ার কম্পোজিট ফিল্ম জমা ও প্রস্তুত করা যেতে পারে।অতএব, এই যৌগিক আবরণ প্রযুক্তি একাধিক অ্যাপ্লিকেশন সহ একটি যৌগিক আবরণ প্রযুক্তি।
পোস্টের সময়: নভেম্বর-০৮-২০২২