Tehnologija hemijskog taloženja parom (CVD) je tehnologija za formiranje filma koja koristi zagrijavanje, poboljšanje plazme, foto-potpomognuta i druga sredstva kako bi plinovite tvari proizvele čvrste filmove na površini supstrata kemijskom reakcijom pod normalnim ili niskim tlakom.
Općenito, reakcija u kojoj je reaktant plin, a jedan od proizvoda čvrsta tvar naziva se CVD reakcija.Postoje mnoge vrste premaza pripremljenih CVD reakcijom, posebno u poluvodičkim procesima.Na primjer, u oblasti poluvodiča, rafiniranje sirovina, priprema visokokvalitetnih poluvodičkih monokristalnih filmova i rast polikristalnih i amorfnih filmova, od elektronskih uređaja do integriranih kola, svi su povezani s CVD tehnologijom.Osim toga, površinsku obradu materijala ljudi favoriziraju.Na primjer, različiti materijali kao što su strojevi, reaktori, svemirska, medicinska i kemijska oprema mogu se koristiti za pripremu funkcionalnih premaza otpornih na koroziju, otpornost na toplinu, otpornost na habanje i površinsko ojačanje metodom formiranja CVD filma prema njihovim različitim zahtjevima.
—— Ovaj članak je objavio Guangdong Zhenhua, proizvođačoprema za vakuumsko premazivanje
Vrijeme objave: Mar-04-2023