Plazma direktna polimerizacija

Plazma direktna polimerizacija

Proces plazma polimerizacije je relativno jednostavan kako za opremu za polimerizaciju unutrašnjih elektroda tako i za opremu za polimerizaciju eksterne elektrode, ali je odabir parametara važniji u plazma polimerizaciji, jer parametri imaju veći utjecaj na strukturu i performanse polimernih filmova tokom plazma polimerizacije.

Koraci operacije za direktnu polimerizaciju plazme su sljedeći:

(1) Usisavanje

Pozadinski vakuum polimerizacije u vakuumskim uslovima treba pumpati na 1,3×10-1Pa.Za reakcije polimerizacije koje zahtijevaju posebne zahtjeve za kontrolu sadržaja kisika ili dušika, zahtjevi za pozadinskim vakuumom su još veći.

(2) Reakcioni naboj monomera ili mešavina gasa nosača i monomera

Stepen vakuuma je 13-130Pa.Za Plazma polimerizaciju koja zahtijeva rad, potrebno je odabrati odgovarajući način kontrole protoka i brzinu protoka, općenito 10.100 mL/min.U plazmi, molekuli monomera se joniziraju i disociraju bombardiranjem energetskih čestica, što rezultira aktivnim česticama kao što su joni i aktivni geni.Aktivne čestice aktivirane plazmom mogu biti podvrgnute plazma polimerizaciji na granici gasne faze i čvrste faze.Monomer je izvor prekursora za plazma polimerizaciju, a ulazni reakcioni gas i monomer moraju imati određenu čistoću.

(3) Izbor izvora napajanja pobude

Plazma se može generisati korišćenjem DC, visokofrekventnih, RF ili mikrotalasnih izvora napajanja da bi se obezbedilo okruženje plazme za polimerizaciju.Izbor napajanja određuje se na osnovu zahtjeva za strukturom i performansama polimera.

(4) Izbor načina pražnjenja

Za potrebe polimera, Plazma polimerizacija može izabrati dva načina pražnjenja: kontinuirano pražnjenje ili pulsno pražnjenje.

(5) Izbor parametara pražnjenja

Prilikom provođenja plazma polimerizacije, potrebno je uzeti u obzir parametre pražnjenja na osnovu parametara plazme, svojstava polimera i zahtjeva strukture.Veličina primijenjene snage tokom polimerizacije određena je zapreminom vakuumske komore, veličinom elektrode, brzinom i strukturom monomera, brzinom polimerizacije i strukturom i performansama polimera.Na primjer, ako je zapremina reakcione komore 1L i usvojena je RF plazma polimerizacija, snaga pražnjenja će biti u rasponu od 10~30W.U takvim uslovima, stvorena plazma se može agregirati i formirati tanak film na površini radnog komada.Brzina rasta filma plazma polimerizacije varira u zavisnosti od napajanja, tipa monomera i brzine protoka i uslova procesa.Općenito, stopa rasta je 100nm/min~1um/min.

(6) Mjerenje parametara u plazma polimerizaciji

Parametri plazme i procesni parametri koji se mjere u plazma polimerizaciji uključuju: napon pražnjenja, struju pražnjenja, frekvenciju pražnjenja, temperaturu elektrona, gustoću, tip reakcione grupe i koncentraciju, itd.

——Ovaj članak je objavio Guangdong Zhenhua Technology, aproizvođač mašina za optičko premazivanje.