Oprema za kompozitno premazivanje magnetronskog raspršivanja i katodnog višelučnog ionskog premaza može raditi odvojeno i istovremeno;može se nanositi i pripremati čisti metalni film, folija metalne smjese ili kompozitna folija;može biti jednoslojni film i višeslojni kompozitni film.
Njegove prednosti su sledeće:
Ne samo da kombinuje prednosti različitih ionskih premaza i uzima u obzir pripremu i taloženje tankog filma za različita područja primjene, već također omogućava nanošenje i pripremu višeslojnih monolitnih filmova ili višeslojnih kompozitnih filmova u istom vakuumu. komora za oblaganje u jednom trenutku.
Primene slojeva deponovanog filma imaju široku primenu, njegove tehnologije su u različitim oblicima, a tipični su sledeći:
(1) Jedinjenje neravnotežnog magnetronskog raspršivanja i tehnologije katodnog ionskog oblaganja.
Njegov uređaj je prikazan na sljedeći način.To je složena oprema za premazivanje kolonaste magnetronske mete i planarnog katodnog ionskog premaza, koja je pogodna i za premazivanje alata složenim filmom i dekorativnim filmskim premazom.Za premazivanje alata, katodni ionski premaz se koristi prvo za premazivanje osnovnog sloja, a zatim se kolona magnetronska meta koristi za taloženje nitridnih i drugih slojeva filma kako bi se dobio visokoprecizan površinski film alata za obradu.
Za dekorativni premaz, dekorativni filmovi TiN i ZrN mogu se prvo nanijeti katodnim premazom, a zatim dopirati metalom pomoću magnetronskih meta, a učinak dopinga je vrlo dobar.
(2) Spoj tehnika dvostrukog magnetrona i katodne katodne jonske prevlake.Uređaj je prikazan na sljedeći način.Koristi se napredna twin target tehnologija, kada su dvije jedna pored druge dvostruke mete povezane sa napajanjem srednje frekvencije, ne samo da prevazilazi ciljno trovanje od DC raspršivanja, vatre i drugih nedostataka;i može odložiti film kvaliteta Al203, SiO2 oksida, tako da se otpornost na oksidaciju obloženih dijelova povećala i poboljšala.Stupasta višelučna meta instalirana u centru vakuumske komore, ciljni materijal se može koristiti Ti i Zr, ne samo da bi se održale prednosti visoke stope disocijacije u više luka, brzine taloženja, već može učinkovito smanjiti "kapljice" u proces taloženja meta sa više luka u maloj ravni, može deponovati i pripremiti nisku poroznost metalnih filmova, složenih filmova.Ako se Al i Si koriste kao ciljni materijali za dvostruke planarne magnetronske mete postavljene na periferiji, Al203 ili Si0 metal-keramički filmovi mogu se nanijeti i pripremiti.Osim toga, na periferiji se može instalirati više malih ravni izvora višelučnog isparavanja, a njegov ciljni materijal može biti Cr ili Ni, a metalni filmovi i višeslojni kompozitni filmovi se mogu deponirati i pripremiti.Stoga je ova tehnologija kompozitnog premaza tehnologija kompozitnog premaza s više primjena.
Vrijeme objave: Nov-08-2022