ZHCVD1200

L'equip adopta principalment la deposició de vapor químic per preparar la pel·lícula d'òxid, que té les característiques de velocitat de deposició ràpida i alta qualitat de pel·lícula.Pel que fa a l'estructura de l'equip, l'estructura de la doble porta s'utilitza per millorar l'eficiència de subjecció i s'adopta l'últim sistema de subministrament de gas líquid per garantir un flux estable i controlable i garantir de manera eficaç l'estabilitat del procés.La pel·lícula preparada per l'equip té una bona barrera de vapor d'aigua i un període estable més llarg en la prova d'ebullició.
L'equip es pot aplicar a acer inoxidable, maquinari galvanitzat / peces de plàstic, vidre, ceràmica i altres materials, com ara productes electrònics, perles de llum LED, subministraments mèdics i altres productes que necessiten resistència a l'oxidació.La pel·lícula de barrera SiOx està preparada principalment per bloquejar eficaçment el vapor d'aigua, prevenir la corrosió i l'oxidació i millorar la vida del producte.