Ang reaktibo nga magnetron sputtering nagpasabot nga ang reaktibo nga gas gihatag aron mo-react sa mga partikulo sa sputtered sa proseso sa sputtering aron makahimo og compound film. Makahatag kini og reaktibo nga gas nga mo-react sa sputtering compound target sa samang higayon, ug makahatag usab og reactive gas nga mo-react sa sputtering metal o alloy nga target sa samang higayon aron mag-andam og compound film nga adunay gihatag nga chemical ratio.
(1) Ang target nga mga materyales nga gigamit alang sa reaktibo nga magnetron sputtering (single nga elemento nga target o multi-element target) ug ang mga reaksyon nga gas dali nga makuha ang taas nga kaputli, nga makatabang sa pag-andam sa mga high-purity compound films.
(2) Sa reaktibo nga magnetron sputtering, pinaagi sa pag-adjust sa mga parameter sa proseso sa pagdeposito, ang ratio sa kemikal o non-kemikal nga ratio sa compound films mahimong maandam, aron makab-ot ang katuyoan sa pag-regulate sa mga kinaiya sa pelikula pinaagi sa pag-adjust sa komposisyon sa pelikula.
(3) Ang temperatura sa substrate kasagaran dili kaayo taas sa panahon sa reaktibo nga magnetron sputtering deposition nga proseso, ug ang proseso sa pagporma sa pelikula kasagaran wala magkinahanglan sa substrate nga ipainit sa taas kaayo nga temperatura, mao nga adunay gamay nga mga pagdili sa substrate nga materyal.
(4) Ang reaktibo nga magnetron sputtering angay alang sa pag-andam sa dako nga lugar nga homogenous thin films, ug makab-ot ang industriyalisadong produksyon nga adunay tinuig nga output nga usa ka milyon nga square meters nga coating gikan sa usa ka makina. Sa daghang mga kaso, ang kinaiyahan sa pelikula mahimong mabag-o pinaagi lamang sa pagbag-o sa ratio sa reaktibo nga gas sa inert gas sa panahon sa sputtering. Pananglitan, ang pelikula mahimong mausab gikan sa metal ngadto sa semiconductor o non-metal.
——Kini nga artikulo adunayvacuum coating machine manufacturerGipagawas ang Guangdong Zhenhua
Oras sa pag-post: Ago-31-2023