Ang vacuum magnetron sputtering labi nga angay alang sa mga reaktibo nga deposition coatings.Sa pagkatinuod, kini nga proseso makadeposito ug nipis nga mga pelikula sa bisan unsang oxide, carbide, ug nitride nga mga materyales.Dugang pa, ang proseso ilabi na nga angay alang sa pagdeposito sa multilayer nga mga istruktura sa pelikula, lakip na ang optical nga mga disenyo, kolor nga mga pelikula, wear-resistant coatings, nano-laminates, superlattice coatings, insulating films, ug uban pa Sa sayo pa sa 1970, taas nga kalidad nga optical film. Ang mga panig-ingnan sa pagdeposito gihimo alang sa lainlaing mga materyal sa layer sa optical film.Kini nga mga materyales naglakip sa transparent conductive nga mga materyales, semiconductors, polymers, oxides, carbide, ug nitride, samtang ang fluoride gigamit sa mga proseso sama sa evaporative coating.
Ang nag-unang bentaha sa proseso sa magnetron sputtering mao ang paggamit sa reaktibo o non-reaktibo nga mga proseso sa taklap sa pagdeposito sa mga lut-od niini nga mga materyales ug maayo nga pagkontrol sa komposisyon sa layer, gibag-on sa pelikula, pagkaparehas sa gibag-on sa pelikula ug mekanikal nga mga kabtangan sa layer.Ang proseso adunay mga kinaiya sama sa mosunod.
1, Dako nga deposition rate.Tungod sa paggamit sa high-speed magnetron electrodes, ang usa ka dako nga dagan sa ion mahimong makuha, epektibo nga pagpalambo sa deposition rate ug sputtering rate sa niini nga proseso sapaw.Kung itandi sa ubang mga proseso sa sputtering coating, ang magnetron sputtering adunay taas nga kapasidad ug taas nga ani, ug kaylap nga gigamit sa lainlaing produksiyon sa industriya.
2, Taas nga kahusayan sa gahum.Magnetron sputtering target sa kasagaran mopili sa boltahe sa sulod sa han-ay sa 200V-1000V, kasagaran mao ang 600V, tungod kay ang boltahe sa 600V mao lang sa sulod sa labing taas nga epektibo nga range sa gahum efficiency.
3. Ubos nga kusog sa sputtering.Ang target nga boltahe sa magnetron gipadapat sa ubos, ug ang magnetic field nagpugong sa plasma duol sa cathode, nga nagpugong sa mas taas nga enerhiya nga gikarga nga mga partikulo gikan sa paglansad ngadto sa substrate.
4, Ubos nga temperatura sa substrate.Ang anode mahimong magamit sa paggiya sa mga electron nga namugna sa panahon sa pag-discharge, dili kinahanglan ang suporta sa substrate aron makompleto, nga epektibo nga makapakunhod sa pagpamomba sa elektron sa substrate.Busa ang temperatura sa substrate ubos, nga maayo kaayo alang sa pipila ka mga plastik nga substrate nga dili kaayo makasugakod sa taas nga temperatura nga taklap.
5, Magnetron sputtering target surface etching dili uniporme.Magnetron sputtering target surface etching dili patas tungod sa dili patas nga magnetic field sa target.Ang lokasyon sa target nga rate sa etching mas dako, aron ang epektibo nga rate sa paggamit sa target gamay (20-30% ra ang rate sa paggamit).Busa, aron mapauswag ang target nga paggamit, ang pag-apod-apod sa magnetic field kinahanglan nga usbon sa pila ka paagi, o ang paggamit sa mga magnet nga naglihok sa katod mahimo usab nga mapaayo ang target nga paggamit.
6, Composite nga target.Makahimo og composite target coating alloy film.Sa pagkakaron, ang paggamit sa composite magnetron target sputtering proseso nga malampuson nga adunay sapaw sa Ta-Ti haluang metal, (Tb-Dy)-Fe ug Gb-Co subong pelikula.Ang komposit nga target nga istruktura adunay upat ka mga klase, matag usa, mao ang lingin nga gihapinan nga target, square inlaid target, gamay nga square inlaid target ug sektor nga gihapinan target.Ang paggamit sa sektor nga gihapinan target nga istruktura mas maayo.
7. Lapad nga mga aplikasyon.Magnetron sputtering nga proseso mahimong magdeposito sa daghang mga elemento, ang kasagaran mao ang: Ag, Au, C, Co, Cu, Fe, Ge, Mo, Nb, Ni, Os, Cr, Pd, Pt, Re, Rh, Si, Ta, Ti , Zr, SiO, AlO, GaAs, U, W, SnO, ug uban pa.
Ang Magnetron sputtering usa sa labing kaylap nga gigamit nga mga proseso sa coating aron makakuha og taas nga kalidad nga mga pelikula.Uban sa usa ka bag-ong cathode, kini adunay taas nga target nga paggamit ug taas nga deposition rate.Ang Guangdong Zhenhua Technology vacuum magnetron sputtering coating nga proseso kaylap na nga gigamit sa coating sa dako nga lugar nga substrates.Ang proseso dili lamang gigamit alang sa single-layer film deposition, apan alang usab sa multi-layer film coating, dugang pa, gigamit usab kini sa roll to roll process para sa packaging film, optical film, lamination ug uban pang film coating.
Oras sa pag-post: Nob-07-2022