Unsa ang Working Principle sa Ion Plating machine

Ion nga taklapmakina naggikan sa teorya nga gisugyot ni DM Mattox sa 1960s, ug ang katugbang nga mga eksperimento nagsugod niadtong panahona;Hangtud 1971, ang Chambers ug uban pa nagpatik sa teknolohiya sa electron beam ion plating;Ang teknolohiya sa reactive evaporation plating (ARE) gipunting sa taho sa Bunshah kaniadtong 1972, kung ang mga tipo sa super-hard film sama sa TiC ug TiN gihimo;Usab sa 1972, gisagop ni Smith ug Molley ang hollow cathode nga teknolohiya sa proseso sa coating.Sa 1980s, ang ion plating sa China sa katapusan nakaabot sa lebel sa industriyal nga aplikasyon, ug ang mga proseso sa coating sama sa vacuum multi-arc ion plating ug arc-discharge ion plating sunodsunod nga nagpakita.

Ang tibuok nga proseso sa pagtrabaho sa vacuum ion plating mao ang mosunod: una,bombaang vacuum chamber, ug dayonpaghulatang vacuum pressure sa 4X10 ⁻ ³ Pao mas maayo, gikinahanglan nga ikonektar ang taas nga boltahe nga suplay sa kuryente ug magtukod usa ka ubos nga temperatura nga lugar sa plasma nga adunay mubu nga boltahe nga paggawas sa gas tali sa substrate ug sa evaporator.Ikonektar ang substrate electrode nga adunay 5000V DC negatibo nga taas nga boltahe aron maporma ang usa ka glow discharge sa cathode.Ang mga inert gas ions namugna duol sa negatibong glow area.Gisulod nila ang ngitngit nga lugar sa cathode ug gipadali sa electric field ug gibombahan ang nawong sa substrate.Kini usa ka proseso sa pagpanglimpyo, ug dayon isulod ang proseso sa coating.Pinaagi sa epekto sa pagpainit sa pagpamomba, ang pipila ka mga materyales sa plating naalisngaw.Ang lugar sa plasma mosulod sa mga proton, magbangga sa mga electron ug inert gas ions, ug usa ka gamay nga bahin niini ang ionized, Kini nga mga ionized ions nga adunay taas nga kusog mobomba sa nawong sa pelikula ug mapauswag ang kalidad sa pelikula sa usa ka sukod.

Ang prinsipyo sa vacuum ion plating mao ang: sa vacuum chamber, gamit ang gas discharge phenomenon o ang ionized nga bahin sa vaporized material, ubos sa bombardment sa vaporized material ions o gas ions, dungan nga ibutang kini nga mga vaporized substances o ilang mga reactant sa substrate. aron makakuha usa ka manipis nga pelikula.Ang ion coatingmakinanaghiusa sa vacuum evaporation, teknolohiya sa plasma ug gas glow discharge, nga dili lamang nagpauswag sa kalidad sa pelikula, apan nagpalapad usab sa sakup sa aplikasyon sa pelikula.Ang mga bentaha niini nga proseso mao ang lig-on nga diffraction, maayo nga film adhesion, ug lain-laing mga coating nga mga materyales.Ang prinsipyo sa ion plating unang gisugyot ni DM Mattox.Adunay daghang mga matang sa ion plating.Ang labing kasagaran nga tipo mao ang pagpainit sa evaporation, lakip ang pagpainit sa resistensya, pagpainit sa electron beam, pagpainit sa plasma electron beam, pagpainit sa high-frequency induction ug uban pang mga pamaagi sa pagpainit.