A tecnulugia di Depositu di Vapuri Chimica (CVD) hè una tecnulugia di furmazione di film chì usa riscaldamentu, rinforzamentu di plasma, fotoassistu è altri mezi per fà chì i sustanzi gasosi pruducenu film solidi nantu à a superficia di u sustrato per via di una reazione chimica sottu pressione normale o bassa.
In generale, a reazzione in quale u reactant hè un gasu è unu di i prudutti hè un solidu hè chjamatu reazzione CVD.Ci sò parechji tipi di rivestimenti preparati da a reazione CVD, in particulare in u prucessu di semiconductor.Per esempiu, in u campu di i semiconduttori, a raffinazione di materie prime, a preparazione di filmi monocristallini di semiconductor d'alta qualità, è a crescita di filmi policristallini è amorfi, da i dispositi elettronici à i circuiti integrati, sò tutti ligati à a tecnulugia CVD.Inoltre, u trattamentu di a superficia di i materiali hè favuritu da e persone.Per esempiu, diversi materiali cum'è machini, reattori, aerospaziali, equipaghji medichi è chimichi ponu esse aduprati per preparà rivestimenti funziunali cù resistenza à a corrosione, resistenza à u calore, resistenza à l'usura è rinfurzamentu di a superficia per u metudu di furmazione di film CVD secondu e so diverse esigenze.
—— Stu articulu hè publicatu da Guangdong Zhenhua, un fabricatore diequipaggiu di rivestimentu di vacuum
Tempu di Postu: Mar-04-2023