① Bona cuntrullabilità è ripetibilità di u spessore di film
Se u spessore di a film pò esse cuntrullata à un valore predeterminatu hè chjamatu cuntrollu di u spessore di film.U spessore di u filmu necessariu pò esse ripetutu per parechje volte, chì hè chjamatu ripetibilità di spessore di film.Dunque, u grossu di a film sputtered hè cuntrullabile, è a film cù un grossu predeterminatu pò esse depositatu in modu affidabile.Inoltre, u revestimentu sputter pò ottene un film cù un grossu uniforme nantu à una grande superficia.
② Forte aderenza trà film è sustrato
L'energia di l'atomi sputtered hè 1-2 ordini di grandezza più altu ch'è quellu di l'atomi evaporati.A cunversione d'energia di l'atomi sputtered d'alta energia dipositu nantu à u sustrato hè assai più altu ch'è quellu di l'atomi evaporati, chì genera calore più altu è aumenta l'aderenza trà l'atomi sputtered è u sustrato.Inoltre, certi atomi sputtered d'alta energia pruducenu diversi gradi di iniezione, furmendu una strata di pseudodiffusion nantu à u sustrato.Inoltre, u sustrato hè sempre pulitu è attivatu in a regione di plasma durante u prucessu di furmazione di film, chì sguassate l'atomi di sputtering cù adesione debule, è purifica è attivate a superficia di u sustrato.Dunque, a film sputtered hà una forte aderenza à u sustrato.
③ Un novu materiale di film differente da u target pò esse preparatu
Se u gasu reattivu hè intruduttu durante u sputtering per fà reagisce cù u mira, pò esse acquistatu un novu film di materiale completamente diversu da u mira.Per esempiu, u siliciu hè adupratu cum'è u scopu di sputtering, è l'ossigenu è l'argon sò messi in a camera di vacuum inseme.Dopu à sputtering, film insulating SiOz pò esse acquistatu.Utilizendu u titaniu cum'è u scopu di sputtering, u nitrogenu è l'argon sò messi in a camera di vacuum inseme, è a fase TiN film d'oru pò esse ottenuta dopu a sputtering.
④ Alta purezza è bona qualità di film
Siccomu ùn ci hè micca un cumpunente di crucible in u dispusitivu di preparazione di film sputtering, i cumpunenti di u materiale di riscaldamentu di crucible ùn saranu micca mischiati in a strata di film sputtering.I disadvantages di u revestimentu sputtering sò chì a velocità di furmazione di film hè più lenta chè quella di u revestimentu di evaporazione, a temperatura di u sustrato hè più altu, hè faciule d'esse affettatu da gas impurità, è a struttura di u dispusitivu hè più cumplessa.
Questu articulu hè publicatu da Guangdong Zhenhua, un fabricatore diequipaggiu di rivestimentu di vacuum
Tempu di Postu: Mar-09-2023