Introduzione di deposizione di vapore à vacuum, sputtering è rivestimentu ionicu

U revestimentu di vacuum include principarmenti a deposizione di vapore à vacuum, u sputtering coating è io coating, chì sò tutti aduprati per deposità diversi filmi metallichi è non metallichi nantu à a superficia di parti di plastica per distillazione o sputtering in cundizioni di vacuum, chì ponu ottene un revestimentu di superficia assai sottile. cù u vantaghju eccezziunale di aderenza rapida, ma u prezzu hè ancu più altu, è i tipi di metalli chì ponu esse operati sò menu, è sò generalmente usati per u revestimentu funziunale di i prudutti di qualità superiore.

A deposizione di vapore di vacuum hè un metudu di scaldà u metallu sottu u vacuum altu, facennu funnu, evaporate, è formate una filma fina di metallu nantu à a superficia di a mostra dopu à rinfriscà, cù un spessore di 0,8-1,2 um.Riempite i picculi parti cuncavi è cunvessi nantu à a superficia di u pruduttu furmatu per ottene una superficia cum'è un specchiu. Quandu a deposizione di vapore in vacuum hè realizatu o per ottene un effettu specchiu riflettente o per vaporizà un azzaru cù aderenza bassa, a superficia di u fondu. deve esse rivestitu.

Sputtering di solitu si riferisce à magnetron sputtering, chì hè un mètudu sputtering high-vitezza bassa temperatura.U prucessu richiede un vacuum di circa 1 × 10-3Torr, vale à dì 1,3 × 10-3Pa statu di vacuu pienu di gas inerte argon (Ar), è trà u sustrato plasticu (anodu) è u mira di metallu (catodu) più alta tensione. currente direttu, per via di l'eccitazione di l'elettroni di gas inerte generatu da scaricamentu luminoso, pruducia plasma, u plasma sparghjerà l'atomi di u mira di metalli è li deposita nantu à u sustrato plasticu.A maiò parte di i rivestimenti metallichi generali utilizanu sputtering DC, mentri i materiali ceramichi non-conduttivi utilizanu RF AC sputtering.

U revestimentu di ioni hè un metudu in u quale una scarica di gas hè aduprata per ionizà parzialmente u gasu o a sustanza evaporata in cundizioni di vacuum, è a sustanza evaporata o i so reagenti sò dipositati nantu à u sustrato per bombardamentu di ioni di gas o ioni di a sustanza evaporata.Questi includenu un rivestimentu di ioni di magnetron sputtering, un rivestimentu di ioni reattivi, un rivestimentu di ioni di scarica di catodi cavu (metudu di deposizione di vapore di catodi cavu), è un revestimentu di ioni multi-arcu (coating arc ion di catodi).

Magnetron verticale à doppia faccia sputtering revestimentu cuntinuu in linea
Ampia applicabilità, pò esse aduprata per i prudutti elettronichi cum'è a capa di schermatura EMI di cunchiglia di notebook, i prudutti piani, è ancu tutti i prudutti di tazza di lampada in una certa specificazione di altezza pò esse pruduciutu.Grande capacità di carica, serratura compatta è serratura scalata di tazze di luce cónica per un rivestimentu à doppia faccia, chì pò avè una capacità di carica più grande.Qualità stabile, bona consistenza di a capa di film da un batch à l'altru.Altu gradu d'automatizazione è bassu costu di travagliu.