Caratteristiche tecniche di l'attrezzatura di rivestimentu sputtering magnetron vacuum

U sputtering di magnetron à vacuum hè particularmente adattatu per i rivestimenti di deposizione reattiva.In fattu, stu prucessu pò dipositu filmi sottili di qualsiasi materiale d'ossidu, carburu è nitruru.Inoltre, u prucessu hè ancu particularmente adattatu per a deposizione di strutture di film multilayer, cumprese disinni ottici, filmi di culore, rivestimenti resistenti à l'usura, nano-laminati, revestimenti superlattice, film insulating, etc. Dapoi 1970, film otticu d'alta qualità. Esempi di deposizione sò stati sviluppati per una varietà di materiali di strati di film otticu.Questi materiali includenu materiali cunduttori trasparenti, semiconduttori, polimeri, ossidi, carburi è nitruri, mentre chì i fluoruri sò usati in prucessi cum'è u revestimentu evaporativu.

U vantaghju principali di u prucessu di sputtering magnetron hè l'usu di prucessi di rivestimentu reattivu o micca reattivu per deposità strati di sti materiali è cuntrollà bè a cumpusizioni di a strata, u spessore di a film, l'uniformità di u spessore di u film è e proprietà meccaniche di u stratu.U prucessu hà e caratteristiche cum'è seguita.

1 、 Grande tassu di depositu.A causa di l'usu di l'elettrodi magnetroni d'alta velocità, pò esse ottenutu un grande flussu di ioni, migliurà in modu efficace a tarifa di deposizione è a rata di sputtering di stu prucessu di rivestimentu.Paragunatu cù altri prucessi di rivestimentu sputtering, magnetron sputtering hà una alta capacità è un altu rendiment, è hè largamente utilizatu in diverse produzioni industriali.

2 、 Alta efficienza energetica.Magnetron sputtering target generalmente sceglie u voltage in a gamma di 200V-1000V, di solitu hè 600V, perchè a tensione di 600V hè ghjustu in u più altu intervallu efficace di efficienza di putenza.

3. Bassu sputtering energia.A tensione di destinazione di magnetron hè applicata bassa, è u campu magneticu cunfina u plasma vicinu à u catodu, chì impedisce à e particelle cariche d'energia più elevata di lancià nantu à u sustrato.

4、Bassa temperatura di u sustrato.L'anodu pò esse usatu per guidà l'elettroni generati durante a scaricazione, senza bisognu di u sustegnu di u sustrato per cumplettà, chì pò riduce in modu efficace u bombardamentu elettronicu di u sustrato.Cusì a temperatura di u sustrato hè bassu, chì hè assai ideale per certi sustrati di plastica chì ùn sò micca assai resistenti à u revestimentu d'alta temperatura.

5, Magnetron sputtering incisione di a superficia di destinazione ùn hè micca uniforme.Magnetron sputtering a superficia di destinazione incisione irregolare hè causata da u campu magneticu irregolare di u mira.U locu di u tassu di incisione di destinazione hè più grande, cusì chì u tassu d'utilizazione efficace di u mira hè bassu (solu 20-30% tassu d'utilizazione).Dunque, per migliurà l'utilizazione di u mira, a distribuzione di u campu magneticu deve esse cambiatu per certi mezi, o l'usu di magneti chì si movenu in u catodu pò ancu migliurà l'utilizazione di u mira.

6, mira cumpostu.Pò fà un film di lega di rivestimentu cumpostu di destinazione.Attualmente, l'usu di u prucessu di sputtering di mira di magnetron compositu hè statu rivestitu cù successu nantu à una film di lega Ta-Ti, (Tb-Dy)-Fe è Gb-Co.A struttura di destinazione composta hà quattru tipi, rispettivamente, sò u target intarsiatu tondo, target intarsiatu quadratu, target intarsiatu quadratu chjucu è target intarsiatu settore.L'usu di a struttura di destinazione intarsiata di settore hè megliu.

7. Wide gamma di appiicazioni.U prucessu di sputtering di Magnetron pò deposità parechji elementi, i più cumuni sò: Ag, Au, C, Co, Cu, Fe, Ge, Mo, Nb, Ni, Os, Cr, Pd, Pt, Re, Rh, Si, Ta, Ti , Zr, SiO, AlO, GaAs, U, W, SnO, ecc.

Magnetron sputtering hè unu di i prucessi di rivestimentu più utilizati per ottene filmi di alta qualità.Cù un novu catodu, hà una alta utilizazione di destinazione è una alta rata di depositu.Guangdong Zhenhua Technology Tecnulugia vacuum magnetron sputtering prucessu di rivestimentu hè oghji largamente usata in u revestimentu di sustrati di grande area.U prucessu ùn hè micca solu utilizatu per a deposizione di film in una sola capa, ma ancu per u revestimentu di film multi-layer, in più, hè ancu utilizatu in u prucessu di roll to roll per film d'imballaggio, film otticu, laminazione è altri film coating.