Technologie chemického nanášení z plynné fáze (CVD) je technologie tvorby filmu, která využívá zahřívání, plazmové vylepšení, fotopomoc a další prostředky k tomu, aby plynné látky produkovaly pevné filmy na povrchu substrátu chemickou reakcí za normálního nebo nízkého tlaku.
Obecně se reakce, ve které je reaktantem plyn a jedním z produktů je pevná látka, nazývá CVD reakce.Existuje mnoho druhů povlaků připravených CVD reakcí, zejména v polovodičovém procesu.Například v oblasti polovodičů s technologií CVD souvisí rafinace surovin, příprava vysoce kvalitních polovodičových monokrystalických filmů a růst polykrystalických a amorfních filmů, od elektronických zařízení po integrované obvody.Povrchová úprava materiálů je navíc lidmi oblíbená.Například různé materiály, jako jsou stroje, reaktory, letecká, lékařská a chemická zařízení, lze použít k přípravě funkčních povlaků s odolností proti korozi, tepelnou odolností, odolností proti opotřebení a zpevněním povrchu metodou CVD tvorby filmu podle jejich různých požadavků.
—— Tento článek publikuje Guangdong Zhenhua, výrobcevakuové lakovací zařízení
Čas odeslání: březen-04-2023