① Dobrá ovladatelnost a opakovatelnost tloušťky filmu
To, zda lze tloušťku filmu řídit na předem stanovenou hodnotu, se nazývá ovladatelnost tloušťky filmu.Požadovanou tloušťku filmu lze mnohokrát opakovat, což se nazývá opakovatelnost tloušťky filmu. Protože výbojový proud a cílový proud vakuového naprašovacího povlaku lze řídit samostatně.Proto je tloušťka naprašovaného filmu řiditelná a film s předem stanovenou tloušťkou může být spolehlivě nanášen.Kromě toho může naprašování získat film s rovnoměrnou tloušťkou na velkém povrchu.
② Silná adheze mezi fólií a substrátem
Energie rozprášených atomů je o 1-2 řády vyšší než energie odpařených atomů.Přeměna energie vysokoenergetických naprašovaných atomů nanesených na substrátu je mnohem vyšší než přeměna odpařených atomů, což generuje vyšší teplo a zvyšuje adhezi mezi naprašovanými atomy a substrátem.Některé vysokoenergetické naprašované atomy navíc produkují různé stupně injekce a vytvářejí na substrátu pseudodifúzní vrstvu.Kromě toho je substrát vždy vyčištěn a aktivován v oblasti plazmatu během procesu tvorby filmu, který odstraňuje atomy naprašování se slabou adhezí a čistí a aktivuje povrch substrátu.Proto má naprašovaný film silnou adhezi k substrátu.
③ Lze připravit nový materiálový film odlišný od cíle
Pokud se během rozprašování zavede reaktivní plyn, aby reagoval s terčem, lze získat nový materiálový film zcela odlišný od terče.Jako rozprašovací terč se používá například křemík a do vakuové komory se společně vkládají kyslík a argon.Po naprašování lze získat izolační film SiOz.Při použití titanu jako naprašovacího terče se dusík a argon vloží do vakuové komory společně a po naprašování lze získat fázový TiN film podobný zlatu.
④ Vysoká čistota a dobrá kvalita filmu
Protože v zařízení pro přípravu naprašovací fólie není žádná složka kelímku, složky ohřívacího materiálu kelímku nebudou ve vrstvě naprašovací fólie smíchány.Nevýhody naprašování spočívají v tom, že rychlost tvorby filmu je pomalejší než rychlost nanášení odpařováním, teplota substrátu je vyšší, je snadné jej ovlivnit plynem nečistot a struktura zařízení je složitější.
Tento článek je publikován společností Guangdong Zhenhua, výrobcemvakuové lakovací zařízení
Čas odeslání: březen-09-2023