Technologie plazmového chemického napařování s vylepšeným horkým drátem využívá k vyzařování obloukové plazmy pistoli s horkým drátem, zkráceně PECVD technologie horkého drátu.Tato technologie je podobná technologii iontového potahování horkým drátem, ale rozdíl je v tom, že pevný film získaný iontovým potahováním horkým drátěným obloukem využívá tok elektronů obloukového světla vyzařovaný horkou drátěnou obloukovou pistolí k zahřívání a odpařování kovu. kelímku, zatímco žárovka PECVD oblouku s horkým drátem je napájena reakčními plyny, jako je CH4 a H2, které se používají pro nanášení diamantových filmů.Spoléháním se na proud obloukového výboje s vysokou hustotou emitovaný žhavicí drátěnou obloukovou pistolí jsou ionty reaktivního plynu excitovány za účelem získání různých aktivních částic, včetně plynových iontů, atomárních iontů, aktivních skupin a tak dále.
V zařízení PECVD s horkým drátem jsou stále dvě elektromagnetické cívky instalovány mimo lakovnu, což způsobuje rotaci toku elektronů s vysokou hustotou během pohybu směrem k anodě, což zvyšuje pravděpodobnost kolize a ionizace mezi tokem elektronů a reakčním plynem. .Elektromagnetická cívka se také může sbíhat do obloukového sloupce pro zvýšení hustoty plazmatu celé nanášecí komory.V obloukovém plazmatu je hustota těchto aktivních částic vysoká, což usnadňuje ukládání diamantových filmů a dalších filmových vrstev na obrobek.
——Tento článek vydala společnost Guangdong Zhenhua Technology, avýrobce optických lakovacích strojů.
Čas odeslání: květen-05-2023