1. Typ filmu na informačním displeji
Kromě tenkých vrstev TFT-LCD a OLED informační displej také obsahuje elektrodové fólie a transparentní elektrodové fólie pixelů na zobrazovacím panelu. Proces potahování je základním procesem TFT-LCD a OLED displeje.S neustálým pokrokem technologie zobrazování informací jsou požadavky na výkon tenkých filmů v oblasti zobrazování informací stále přísnější a vyžadují přesnou kontrolu parametrů, jako je stejnoměrnost, tloušťka, drsnost povrchu, měrný odpor a dielektrická konstanta.1. Typ filmu na informačním displeji
Kromě tenkých vrstev TFT-LCD a OLED informační displej také obsahuje elektrodové fólie a transparentní elektrodové fólie pixelů na zobrazovacím panelu. Proces potahování je základním procesem TFT-LCD a OLED displeje.S neustálým pokrokem technologie zobrazování informací jsou požadavky na výkon tenkých filmů v oblasti zobrazování informací stále přísnější a vyžadují přesnou kontrolu parametrů, jako je stejnoměrnost, tloušťka, drsnost povrchu, měrný odpor a dielektrická konstanta.
2. Velikost plochých displejů
V průmyslu plochých displejů se velikost skleněného substrátu použitého ve výrobní lince obvykle používá k rozdělení linky. Při výrobě se obvykle nejprve vyrábí velkoformátový substrát a poté se řeže na velikost obrazovky produktu.Čím větší je velikost substrátu, tím je vhodnější pro přípravu velkoformátového displeje. V současné době byl TFT-LCD vyvinut tak, aby byl vhodný pro výrobu 50in + displeje řady 11 generace (3000mmx3320mm), zatímco OLED displej je vyvinuto tak, aby bylo vhodné pro výrobu řady 18~37in + displeje 6 generace (1500 mm x 1850 mm). Přestože velikost skleněného substrátu přímo nesouvisí s konečným výkonem zobrazovacího produktu, zpracování velkoformátového substrátu má vyšší produktivitu a nižší náklady.Zpracování velkoplošných panelů je proto důležitým směrem rozvoje průmyslu zobrazování informací.Velkoplošné zpracování však bude také čelit problému špatné uniformity a nízké excelentní rychlosti, což se řeší především modernizací procesního zařízení a zlepšením technologie.
Na druhou stranu je nutné vzít v úvahu nosnou teplotu substrátu během zpracování filmu na displeji.Snížení teploty procesu může účinně rozšířit oblast použití filmu na informačním displeji a snížit náklady.Současně s vývojem flexibilních zobrazovacích zařízení mají flexibilní substráty, které nejsou odolné vůči vysokým teplotám (zejména včetně ultratenkého skla, měkkých plastů a dřevěných vláken), přísnější požadavky na nízkoteplotní technologii.V současné době jsou nejběžněji používané flexibilní polymerní plastové substráty obecně schopné odolat teplotám pod 300 ℃, včetně polyiminu (PI), polyarylových sloučenin (PAR) a polyethylentereftalátu (PET).
Ve srovnání s jinými metodami lakování,technologie iontového povlakumůže účinně snížit procesní teplotu přípravy tenkého filmu, připravený film pro informační displej má vynikající výkon, velkoplošnou rovnoměrnost výroby, může splňovat potřeby zobrazovacích zařízení, vysokou vynikající rychlost, takže technologie iontového povlaku je široce používána v průmyslové výrobě filmů na informačním displeji a vědecký výzkum.Technologie iontového povlaku je základní technologií v oblasti zobrazování informací, která podporuje zrod, aplikaci a pokrok TFT-LCD a OLED.
Čas odeslání: 25. května 2023