Mae'r dechnoleg dyddodiad anwedd cemegol plasma gwell arc gwifren poeth yn defnyddio'r gwn arc gwifren poeth i allyrru plasma arc, wedi'i dalfyrru fel technoleg arc gwifren poeth PECVD.Mae'r dechnoleg hon yn debyg i'r dechnoleg cotio ïon gwn arc gwifren poeth, ond y gwahaniaeth yw bod y ffilm solet a geir trwy orchudd ïon gwn arc gwifren poeth yn defnyddio'r llif electron golau arc a allyrrir gan y gwn arc gwifren poeth i wresogi ac anweddu'r metel yn y crucible, tra bod y golau arc gwifren poeth PECVD yn cael ei fwydo â nwyon adwaith, megis CH4 a H2, a ddefnyddir ar gyfer adneuo ffilmiau diemwnt.Trwy ddibynnu ar y cerrynt rhyddhau arc dwysedd uchel a allyrrir gan y gwn arc gwifren poeth, mae'r ïonau nwy adweithiol yn gyffrous i gael gronynnau gweithredol amrywiol, gan gynnwys ïonau nwy, ïonau atomig, grwpiau gweithredol, ac ati.
Yn y ddyfais PECVD arc gwifren poeth, mae dwy coil electromagnetig yn dal i gael eu gosod y tu allan i'r ystafell cotio, gan achosi'r llif electronau dwysedd uchel i gylchdroi yn ystod y symudiad tuag at yr anod, gan gynyddu'r tebygolrwydd o wrthdrawiad ac ionization rhwng y llif electron a'r nwy adwaith .Gall y coil electromagnetig hefyd gydgyfeirio i golofn arc i gynyddu dwysedd plasma'r siambr ddyddodiad gyfan.Mewn plasma arc, mae dwysedd y gronynnau gweithredol hyn yn uchel, gan ei gwneud hi'n haws adneuo ffilmiau diemwnt a haenau ffilm eraill ar y darn gwaith.
—— Rhyddhawyd yr erthygl hon gan Guangdong Zhenhua Technology, agwneuthurwr peiriannau cotio optegol.
Amser postio: Mai-05-2023