Cyflwyno dyddodiad anwedd gwactod, sputtering a cotio ïon

Mae cotio gwactod yn bennaf yn cynnwys dyddodiad anwedd gwactod, cotio sputtering a cotio ïon, a defnyddir pob un ohonynt i adneuo ffilmiau metel ac anfetelau amrywiol ar wyneb rhannau plastig trwy ddistyllu neu sputtering o dan amodau gwactod, a all gael gorchudd arwyneb tenau iawn gyda'r fantais ragorol o adlyniad cyflym, ond mae'r pris hefyd yn uwch, ac mae'r mathau o fetelau y gellir eu gweithredu yn llai, ac fe'u defnyddir yn gyffredinol ar gyfer cotio swyddogaethol cynhyrchion gradd uwch.

Mae dyddodiad anwedd gwactod yn ddull o wresogi'r metel o dan wactod uchel, gan ei gwneud yn doddi, anweddu, a ffurfio ffilm fetel denau ar wyneb y sampl ar ôl oeri, gyda thrwch o 0.8-1.2 um.Mae'n llenwi yn y rhannau ceugrwm bach a Amgrwm ar wyneb y cynnyrch a ffurfiwyd i gael drych-debyg i surface.When dyddodiad anwedd gwactod yn cael ei berfformio naill ai i gael effaith drych adlewyrchol neu i wactod vaporize dur ag adlyniad isel, yr wyneb gwaelod rhaid ei orchuddio.

Mae sputtering fel arfer yn cyfeirio at sputtering magnetron, sef dull sputtering tymheredd isel cyflym.Mae'r broses yn gofyn am wactod o tua 1 × 10-3Torr, hynny yw cyflwr gwactod 1.3 × 10-3Pa wedi'i lenwi â nwy anadweithiol argon (Ar), a rhwng y swbstrad plastig (anod) a'r targed metel (catod) ynghyd â foltedd uchel. cerrynt uniongyrchol, oherwydd cyffro electron nwy anadweithiol a gynhyrchir gan ollyngiad glow, gan gynhyrchu plasma, bydd y plasma yn ffrwydro atomau'r targed metel ac yn eu dyddodi ar y swbstrad plastig.Mae'r rhan fwyaf o'r haenau metel cyffredinol yn defnyddio sputtering DC, tra bod y deunyddiau ceramig an-ddargludol yn defnyddio sputtering RF AC.

Mae cotio ïon yn ddull lle mae gollyngiad nwy yn cael ei ddefnyddio i ïoneiddio'r nwy neu'r sylwedd anweddedig yn rhannol o dan amodau gwactod, ac mae'r sylwedd anweddedig neu ei adweithyddion yn cael ei ddyddodi ar y swbstrad trwy beledu ïonau nwy neu ïonau'r sylwedd anweddedig.Mae'r rhain yn cynnwys cotio ïon sputtering magnetron, cotio ïon adweithiol, cotio ïon rhyddhau cathod gwag (dull dyddodiad anwedd catod gwag), a gorchudd ïon aml-arc (cotio ïon arc cathod).

Magnetron fertigol dwy ochr sputtering cotio parhaus yn unol
Cymhwysedd eang, gellir ei ddefnyddio ar gyfer cynhyrchion electronig fel cragen llyfr nodiadau haen cysgodi EMI, cynhyrchion gwastad, a gellir cynhyrchu hyd yn oed yr holl gynhyrchion cwpan lamp o fewn manyleb uchder penodol.Capasiti llwytho mawr, clampio cryno a chlampio fesul cam o gwpanau golau conigol ar gyfer cotio dwy ochr, a all fod â chynhwysedd llwytho mwy.Ansawdd sefydlog, cysondeb da o haen ffilm o swp i swp.Gradd uchel o awtomeiddio a chost llafur rhedeg isel.