Llif Proses Peiriant Cotio Sputtering

1. swbstrad glanhau bomio

1.1) Mae peiriant cotio sputtering yn defnyddio rhyddhau glow i lanhau'r swbstrad.Hynny yw, gwefru'r nwy argon i'r siambr, mae foltedd rhyddhau tua 1000V, Ar ôl troi'r cyflenwad pŵer ymlaen, cynhyrchir gollyngiad glow, ac mae'r swbstrad yn cael ei lanhau gan belediad ïon argon.

1.2) Mewn peiriannau cotio sputtering sy'n cynhyrchu addurniadau pen uchel yn ddiwydiannol, mae ïonau titaniwm a allyrrir gan ffynonellau arc bach yn cael eu defnyddio'n bennaf ar gyfer glanhau.Mae gan y peiriant cotio sputtering ffynhonnell arc fach, a defnyddir y llif ïon titaniwm yn y plasma arc a gynhyrchir gan y gollyngiad ffynhonnell arc bach i beledu a glanhau'r swbstrad.

2. cotio nitrid titaniwm

Wrth adneuo ffilmiau tenau titaniwm nitrid, y deunydd targed ar gyfer sputtering yw targed titaniwm.Mae'r deunydd targed wedi'i gysylltu ag electrod negyddol y cyflenwad pŵer sputtering, a'r foltedd targed yw 400 ~ 500V;Mae'r fflwcs argon yn sefydlog, a'r gwactod rheoli yw (3 ~ 8) x10^-1PA.Mae'r swbstrad wedi'i gysylltu ag electrod negyddol y cyflenwad pŵer bias, gyda foltedd o 100 ~ 200V.

Ar ôl troi cyflenwad pŵer y targed titaniwm sy'n chwistrellu ymlaen, cynhyrchir gollyngiad glow, ac mae ïonau argon ynni uchel yn peledu'r targed sputtering, gan sputtering atomau titaniwm o'r targed.

Mae nitrogen nwy adwaith yn cael ei gyflwyno, ac mae'r atomau titaniwm a nitrogen yn cael eu ïoneiddio i ïonau titaniwm ac ïonau nitrogen yn y siambr cotio.O dan atyniad y maes trydan rhagfarn negyddol a gymhwysir i'r swbstrad, mae ïonau titaniwm ac ïonau nitrogen yn cyflymu i wyneb y swbstrad ar gyfer adwaith cemegol a dyddodiad i ffurfio haen ffilm nitrid titaniwm.

3. Tynnwch y swbstrad allan

Ar ôl cyrraedd y trwch ffilm a bennwyd ymlaen llaw, trowch oddi ar y cyflenwad pŵer sputtering, cyflenwad pŵer bias swbstrad, a ffynhonnell aer.Ar ôl i dymheredd y swbstrad fod yn is na 120 ℃, llenwch y siambr cotio ag aer a thynnwch y swbstrad.

Cyhoeddir yr erthygl hon gangwneuthurwr peiriant cotio sputtering magnetron- Guangdong Zhenhua.