Chemical Vapor Deposition (CVD) teknologi er en filmdannende teknologi, der bruger opvarmning, plasmaforbedring, fotoassisteret og andre midler til at få gasformige stoffer til at producere faste film på substratoverfladen gennem kemisk reaktion under normalt eller lavt tryk.
Generelt kaldes reaktionen, hvor reaktanten er en gas, og et af produkterne er et fast stof, CVD-reaktion.Der er mange slags belægninger fremstillet ved CVD-reaktion, især i halvlederprocesser.For eksempel på halvlederområdet er raffinering af råmaterialer, fremstilling af højkvalitets halvleder-enkeltkrystalfilm og væksten af polykrystallinske og amorfe film, fra elektroniske enheder til integrerede kredsløb, alle relateret til CVD-teknologi.Derudover er overfladebehandlingen af materialer begunstiget af mennesker.For eksempel kan forskellige materialer såsom maskiner, reaktorer, rumfart, medicinsk og kemisk udstyr bruges til at fremstille funktionelle belægninger med korrosionsbestandighed, varmebestandighed, slidstyrke og overfladeforstærkning ved CVD-filmdannelsesmetode i henhold til deres forskellige krav.
—— Denne artikel er udgivet af Guangdong Zhenhua, en producent afvakuumbelægningsudstyr
Posttid: Mar-04-2023