CVD-belægningsteknologi har følgende egenskaber:
1. Procesdriften af CVD-udstyr er relativt enkel og fleksibel, og den kan fremstille enkelt- eller sammensatte film og legeringsfilm med forskellige proportioner;
2. CVD-belægning har en bred vifte af applikationer og kan bruges til at fremstille forskellige metal- eller metalfilmbelægninger;
3. Høj produktionseffektivitet på grund af deponeringshastigheder, der spænder fra nogle få mikrometer til hundredvis af mikrometer pr. minut;
4. Sammenlignet med PVD-metoden har CVD bedre diffraktionsydelse og er meget velegnet til belægning af substrater med komplekse former, såsom riller, belagte huller og endda blindhulsstrukturer.Belægningen kan belægges til en film med god kompakthed.På grund af den høje temperatur under filmdannelsesprocessen og den stærke vedhæftning på filmsubstratets grænseflade er filmlaget meget fast
5. Skaden forårsaget af stråling er relativt lav og kan integreres med MOS integrerede kredsløbsprocesser.
——Denne artikel er udgivet af Guangdong Zhenhua, afabrikant af vakuumbelægningsmaskine
Post tid: Mar-29-2023