Som vi alle ved, er definitionen af halvleder, at den har en ledningsevne mellem tørre ledere og isolatorer, resistivitet mellem metal og isolator, som normalt ved stuetemperatur er inden for området 1mΩ-cm ~ 1GΩ-cm.I de seneste år, vakuum halvleder belægning i de store halvleder virksomheder, er det klart, at dens status er stadig højere, især i nogle store integrerede system kredsløb udvikling teknologi forskning metoder til magnetoelektriske konvertering enheder, lys-emitterende enheder og andet udviklingsarbejde.Vakuum halvlederbelægning spiller en vigtig rolle.
Halvledere er karakteriseret ved deres iboende egenskaber, temperatur og urenhedskoncentration.Vakuum halvlederbelægningsmaterialer adskiller sig hovedsageligt fra hinanden ved dets bestanddele.Stort set alle er baseret på bor, kulstof, silicium, germanium, arsen, antimon, tellur, jod osv., og nogle relativt få GaP, GaAs, lnSb osv.. Der er også nogle oxidhalvledere, såsom FeO, Fe₂O₃, MnO, Cr2O3, Cu2O osv.
Vakuum fordampning, sputtering belægning, ion belægning og andet udstyr kan gøre vakuum halvleder belægning.Disse belægningsudstyr er alle forskellige i deres arbejdsprincip, men de gør alle, at halvledermaterialet belægningsmateriale aflejres på substratet, og som substratets materiale er der ingen krav, det kan være en halvleder eller ej.Derudover kan belægninger med forskellige elektriske og optiske egenskaber fremstilles ved både urenhedsdiffusion og ionimplantation på overfladen af halvledersubstratet i et område.Det resulterende tynde lag kan generelt også behandles som en halvlederbelægning.
Vakuum halvlederbelægning er en uundværlig tilstedeværelse i elektronik, uanset om det er til aktive eller passive enheder.Med den kontinuerlige udvikling af vakuumhalvlederbelægningsteknologi er præcis kontrol af filmens ydeevne blevet mulig.
I de senere år har amorf belægning og polykrystallinsk belægning gjort hurtige fremskridt i fremstillingen af fotoledende enheder, belagte felteffektrør og højeffektive solceller.Derudover på grund af udviklingen af vakuumhalvlederbelægning og den tynde film af sensorer, hvilket også væsentligt reducerer vanskeligheden ved materialevalg og gør fremstillingsprocessen gradvist forenklet.Vakuum halvlederbelægningsudstyr er blevet en nødvendig tilstedeværelse til halvlederapplikationer.Udstyret bruges i vid udstrækning til halvlederbelægning af kameraenheder, solceller, coatede transistorer, feltemission, katodelys, elektronemission, tyndfilmsfølende elementer osv.
Magnetronforstøvningsbelægningslinjen er designet med et fuldautomatisk kontrolsystem, en praktisk og intuitiv berøringsskærm mellem menneske og maskine.Linjen er designet med en komplet funktionsmenu for at opnå fuld overvågning af driftsstatus for hele produktionslinjens komponenter, procesparameterindstilling, driftsbeskyttelse og alarmfunktioner.Hele det elektriske kontrolsystem er sikkert, pålideligt og stabilt.Udstyret med øvre og nedre dobbeltsidet magnetronsputtermål eller enkeltsidet belægningssystem.
Udstyret anvendes hovedsageligt på keramiske kredsløbskort, chip højspændingskondensatorer og anden substratbelægning, de vigtigste anvendelsesområder er elektroniske kredsløb.
Indlægstid: 07-november 2022