Processen med katodisk lysbuekilde ion-belægning er grundlæggende den samme som andre belægningsteknologier, og nogle operationer såsom installation af emner og støvsugning gentages ikke længere.
1. Bombardementrensning af arbejdsemner
Før belægning indføres argongas i belægningskammeret med et vakuum på 2×10-2Pa.
Tænd for pulsforspændingsstrømforsyningen med en arbejdscyklus på 20% og en arbejdsemneforspænding på 800-1000V.
Når lysbuestrømmen er tændt, genereres en koldfeltsbuelysudladning, som udsender en stor mængde elektronstrøm og titaniumionstrøm fra lysbuekilden, hvilket danner et plasma med høj tæthed.Titaniumionen accelererer dens injektion i arbejdsemnet under det negative høje forspændingstryk, der påføres arbejdsemnet, bombarderer og sputterer den resterende gas og forurenende stoffer adsorberet på overfladen af emnet, og renser og renser overfladen af emnet;Samtidig ioniseres klorgassen i belægningskammeret af elektroner, og argon-ioner accelererer bombardementet af emnets overflade.
Derfor er bombardementrensningseffekten god.Kun omkring 1 minuts bombardementrensning kan rense emnet, hvilket kaldes "hovedbuebombardement".På grund af den høje masse af titaniumioner, hvis en lille lysbuekilde bruges til at bombardere og rense emnet for længe, er emnets temperatur tilbøjelig til overophedning, og værktøjskanten kan blive blød.I almindelig produktion tændes små lysbuekilder en efter en fra top til bund, og hver lille lysbuekilde har en bombardementsrensningstid på omkring 1 minut.
（1）Belægning af titaniumbundlag
For at forbedre vedhæftningen mellem filmen og substratet belægges et lag af rent titaniumsubstrat sædvanligvis før belægning af titaniumnitrid.Juster vakuumniveauet til 5×10-2-3×10-1Pa, juster arbejdsemnets forspænding til 400-500V, og juster arbejdscyklussen for pulsforspændingsstrømforsyningen til 40%~50%.Stadig antændelse af små lysbuekilder én efter én for at generere koldfeltsbueudledning.På grund af faldet i den negative forspænding af emnet falder energien af titaniumioner.Efter at have nået arbejdsemnet er sputtereffekten mindre end aflejringseffekten, og der dannes et titaniumovergangslag på emnet for at forbedre bindingskraften mellem titaniumnitrid-hårdfilmlaget og substratet.Denne proces er også processen med at opvarme emnet.Når det rene titaniummål aflades, er lyset i plasmaet azurblåt.
1. Ammoniated skål hård film belægning
Juster vakuumgraden til 3×10-1-5Pa, juster arbejdsemnets forspænding til 100-200V, og juster arbejdscyklussen for pulsforspændingsstrømforsyningen til 70% ~ 80%.Efter at nitrogen er indført, er titan en kombinationsreaktion med lysbueudladningsplasmaet for at afsætte titaniumnitrid hård film.På dette tidspunkt er lyset fra plasmaet i vakuumkammeret kirsebærrødt.Hvis C2H2, O2osv. indføres, TiCN, TiO2osv. filmlag kan opnås.
–Denne artikel blev udgivet af Guangdong Zhenhua, enfabrikant af vakuumbelægningsmaskine
Indlægstid: Jun-01-2023