Ion belægningmaskine stammede fra teorien foreslået af DM Mattox i 1960'erne, og tilsvarende eksperimenter begyndte på det tidspunkt;Indtil 1971 udgav Chambers og andre teknologien til elektronstråle-ionplettering;Den reaktive evaporation plating-teknologi (ARE) blev påpeget i Bunshah-rapporten i 1972, da superhårde filmtyper som TiC og TiN blev produceret;Også i 1972 adopterede Smith og Molley den hule katodeteknologi i belægningsprocessen.I 1980'erne havde ionpletteringen i Kina endelig nået niveauet for industriel anvendelse, og belægningsprocesserne såsom vakuum multi-arc ion plettering og bueudladning ion plettering var dukket op successivt.
Hele arbejdsprocessen med vakuumionplettering er som følger: først,pumpevakuumkammeret, og derefterventevakuumtrykket til 4X10 ⁻ ³ Paeller bedre, er det nødvendigt at tilslutte højspændingsstrømforsyningen og bygge et lavtemperaturplasmaområde af lavspændingsudladningsgas mellem substratet og fordamperen.Forbind substratelektroden med 5000V DC negativ højspænding for at danne en glødeudladning af katoden.Inerte gasioner dannes nær det negative glødeområde.De kommer ind i katodens mørke område og accelereres af det elektriske felt og bombarderer overfladen af substratet.Dette er en rengøringsproces, og gå derefter ind i belægningsprocessen.Gennem virkningen af bombardementopvarmning fordampes nogle pletteringsmaterialer.Plasmaområdet kommer ind i protonerne, kolliderer med elektroner og inerte gasioner, og en lille del af dem er ioniseret. Disse ioniserede ioner med høj energi vil bombardere filmoverfladen og forbedre filmkvaliteten til en vis grad.
Princippet for vakuumionplettering er: i vakuumkammeret, ved hjælp af gasudledningsfænomenet eller den ioniserede del af det fordampede materiale, under bombardementet af det fordampede materiale ioner eller gasioner, aflejrer du samtidig disse fordampede stoffer eller deres reaktanter på substratet for at få en tynd film.Ionbelægningenmaskinekombinerer vakuumfordampning, plasmateknologi og gasglødeudladning, hvilket ikke kun forbedrer filmkvaliteten, men også udvider filmens anvendelsesområde.Fordelene ved denne proces er stærk diffraktion, god filmvedhæftning og forskellige belægningsmaterialer.Princippet om ionplettering blev først foreslået af DM Mattox.Der findes mange slags ionplettering.Den mest almindelige type er fordampningsopvarmning, herunder modstandsopvarmning, elektronstråleopvarmning, plasmaelektronstråleopvarmning, højfrekvent induktionsopvarmning og andre opvarmningsmetoder.
Indlægstid: 14-feb-2023