① Gute Kontrollierbarkeit und Wiederholbarkeit der Filmdicke
Ob die Filmdicke auf einen vorgegebenen Wert gesteuert werden kann, wird als Steuerbarkeit der Filmdicke bezeichnet.Die erforderliche Filmdicke kann viele Male wiederholt werden, was als Wiederholbarkeit der Filmdicke bezeichnet wird. Da der Entladungsstrom und der Zielstrom der Vakuumsputterbeschichtung separat gesteuert werden können.Daher ist die Dicke des gesputterten Films kontrollierbar und der Film mit vorgegebener Dicke kann zuverlässig abgeschieden werden.Darüber hinaus kann durch die Sputterbeschichtung ein Film mit gleichmäßiger Dicke auf einer großen Oberfläche erhalten werden.
② Starke Haftung zwischen Folie und Untergrund
Die Energie gesputterter Atome ist 1-2 Größenordnungen höher als die von verdampften Atomen.Die Energieumwandlung der hochenergetischen gesputterten Atome, die auf dem Substrat abgeschieden werden, ist viel höher als die der verdampften Atome, wodurch eine höhere Wärmeentwicklung entsteht und die Haftung zwischen den gesputterten Atomen und dem Substrat verbessert wird.Darüber hinaus erzeugen einige hochenergetisch gesputterte Atome unterschiedliche Injektionsgrade und bilden eine Pseudodiffusionsschicht auf dem Substrat.Darüber hinaus wird das Substrat während des Filmbildungsprozesses stets im Plasmabereich gereinigt und aktiviert, wodurch die Sputteratome mit schwacher Haftung entfernt und die Substratoberfläche gereinigt und aktiviert wird.Daher weist der gesputterte Film eine starke Haftung auf dem Substrat auf.
③ Es kann ein neuer Materialfilm vorbereitet werden, der sich vom Ziel unterscheidet
Wenn beim Sputtern reaktives Gas eingebracht wird, um es mit dem Target reagieren zu lassen, kann ein neuer Materialfilm erhalten werden, der sich völlig vom Target unterscheidet.Beispielsweise wird Silizium als Sputtertarget verwendet und Sauerstoff und Argon werden gemeinsam in die Vakuumkammer gegeben.Nach dem Sputtern kann ein SiOz-Isolierfilm erhalten werden.Unter Verwendung von Titan als Sputtertarget werden Stickstoff und Argon zusammen in die Vakuumkammer gegeben, und nach dem Sputtern kann der goldähnliche Phase-TiN-Film erhalten werden.
④ Hohe Reinheit und gute Filmqualität
Da es in der Vorrichtung zur Vorbereitung des Sputterfilms keine Tiegelkomponente gibt, werden die Komponenten des Tiegelheizmaterials nicht in der Sputterfilmschicht vermischt.Die Nachteile der Sputterbeschichtung bestehen darin, dass die Filmbildungsgeschwindigkeit langsamer ist als bei der Verdampfungsbeschichtung, die Substrattemperatur höher ist, leicht durch Verunreinigungsgase beeinträchtigt wird und die Gerätestruktur komplexer ist.
Dieser Artikel wurde von Guangdong Zhenhua veröffentlicht, einem Hersteller vonVakuumbeschichtungsanlagen
Zeitpunkt der Veröffentlichung: 09.03.2023