1. Die Werkstückvorspannung ist gering
Durch die Hinzufügung einer Vorrichtung zur Erhöhung der Ionisationsrate wird die Entladungsstromdichte erhöht und die Vorspannung auf 0,5 bis 1 kV reduziert.
Das Rücksputtern durch übermäßigen Beschuss mit hochenergetischen Ionen und die Schädigungswirkung auf die Werkstückoberfläche werden reduziert.
2. Erhöhte Plasmadichte
Verschiedene Maßnahmen zur Förderung der Stoßionisation wurden hinzugefügt und die Metallionisationsrate wurde von 3 % auf über 15 % erhöht.Die Dichte von Chin-Ionen und hochenergetischen Neutralatomen, Stickstoffionen, hochenergetischen Aktivatomen und aktiven Gruppen in der Beschichtungskammer wird erhöht, was die Reaktion zur Bildung von Verbindungen begünstigt.Mit den oben genannten verschiedenen verbesserten Glimmentladungs-Ionenbeschichtungstechnologien konnten TN-Hartfilmschichten durch Reaktionsabscheidung bei höheren Plasmadichten erhalten werden. Da sie jedoch zum Glimmentladungstyp gehören, ist die Entladungsstromdichte nicht hoch genug (immer noch auf dem mA/cm2-Niveau). ), und die Gesamtplasmadichte ist nicht hoch genug, und der Prozess der Reaktionsabscheidungsverbindungsbeschichtung ist schwierig.
3. Der Beschichtungsbereich der Punktverdampfungsquelle ist klein
Verschiedene verbesserte Ionenbeschichtungstechnologien verwenden Elektronenstrahlverdampfungsquellen und Gantu als Punktverdampfungsquelle, die für die Reaktionsabscheidung auf ein bestimmtes Intervall oberhalb von Gantu begrenzt ist, sodass die Produktivität gering, der Prozess schwierig und die Industrialisierung schwierig ist.
4. Hochdruckbetrieb der elektronischen Pistole
Die Spannung der Elektronenkanone beträgt 6 bis 30 kV und die Vorspannung des Werkstücks beträgt 0,5 bis 3 kV. Dies gehört zum Hochspannungsbetrieb und birgt bestimmte Sicherheitsrisiken.
——Dieser Artikel wurde von Guangdong Zhenhua Technology, aHersteller von optischen Beschichtungsmaschinen.
Zeitpunkt der Veröffentlichung: 12. Mai 2023