Wie wir alle wissen, besteht die Definition eines Halbleiters darin, dass er eine Leitfähigkeit zwischen trockenen Leitern und Isolatoren sowie einen spezifischen Widerstand zwischen Metall und Isolator aufweist, der normalerweise bei Raumtemperatur im Bereich von 1 mΩ-cm bis 1 GΩ-cm liegt. In den letzten Jahren Vakuum-Halbleiterbeschichtung in den großen Halbleiterunternehmen, es ist klar, dass sein Status immer höher wird, insbesondere in einigen groß angelegten integrierten Systemschaltungsentwicklungstechnologie-Forschungsmethoden für magnetoelektrische Umwandlungsgeräte, lichtemittierende Geräte und andere Entwicklungsarbeiten.Eine wichtige Rolle kommt der Vakuumbeschichtung von Halbleitern zu.
Halbleiter werden durch ihre intrinsischen Eigenschaften, Temperatur und Verunreinigungskonzentration charakterisiert.Vakuum-Halbleiterbeschichtungsmaterialien unterscheiden sich hauptsächlich durch ihre Bestandteile.Fast alle basieren auf Bor, Kohlenstoff, Silizium, Germanium, Arsen, Antimon, Tellur, Jod usw. und einige relativ wenige auf GaP, GaAs, lnSb usw.. Es gibt auch einige Oxidhalbleiter wie FeO, Fe₂O₃, MnO, Cr₂O₃, Cu₂O usw.
Vakuumverdampfung, Sputterbeschichtung, Ionenbeschichtung und andere Geräte können eine Vakuum-Halbleiterbeschichtung durchführen.Diese Beschichtungsgeräte unterscheiden sich alle in ihrem Funktionsprinzip, sie sorgen jedoch alle dafür, dass das Halbleitermaterial als Beschichtungsmaterial auf dem Substrat abgeschieden wird, und als Material des Substrats gibt es keine Anforderung, ob es ein Halbleiter sein kann oder nicht.Darüber hinaus können Beschichtungen mit unterschiedlichen elektrischen und optischen Eigenschaften sowohl durch Verunreinigungsdiffusion als auch durch Ionenimplantation auf der Oberfläche des Halbleitersubstrats in einem Bereich hergestellt werden.Die resultierende dünne Schicht kann allgemein auch als Halbleiterbeschichtung verarbeitet werden.
Die Vakuum-Halbleiterbeschichtung ist in der Elektronik unverzichtbar, sei es für aktive oder passive Geräte.Mit der kontinuierlichen Weiterentwicklung der Vakuum-Halbleiterbeschichtungstechnologie ist eine präzise Steuerung der Filmleistung möglich geworden.
In den letzten Jahren haben amorphe Beschichtungen und polykristalline Beschichtungen bei der Herstellung von fotoleitenden Geräten, beschichteten Feldeffektröhren und hocheffizienten Solarzellen rasante Fortschritte gemacht.Darüber hinaus wird durch die Entwicklung der Vakuum-Halbleiterbeschichtung und der Dünnschicht-Sensoren die Schwierigkeit der Materialauswahl erheblich verringert und der Herstellungsprozess schrittweise vereinfacht.Vakuum-Halbleiterbeschichtungsanlagen sind für Halbleiteranwendungen unverzichtbar geworden.Die Ausrüstung wird häufig für die Halbleiterbeschichtung von Kamerageräten, Solarzellen, beschichteten Transistoren, Feldemission, Kathodenlicht, Elektronenemission, Dünnfilm-Sensorelementen usw. verwendet.
Die Magnetron-Sputter-Beschichtungslinie ist mit einem vollautomatischen Steuerungssystem und einer praktischen und intuitiven Touchscreen-Mensch-Maschine-Schnittstelle ausgestattet.Die Linie ist mit einem vollständigen Funktionsmenü ausgestattet, um eine vollständige Überwachung des Betriebsstatus für die gesamten Komponenten der Produktionslinie, die Einstellung von Prozessparametern, den Betriebsschutz und Alarmfunktionen zu ermöglichen.Das gesamte elektrische Steuerungssystem ist sicher, zuverlässig und stabil.Ausgestattet mit einem oberen und unteren doppelseitigen Magnetron-Sputtertarget oder einem einseitigen Beschichtungssystem.
Die Ausrüstung wird hauptsächlich auf keramischen Leiterplatten, Chip-Hochspannungskondensatoren und anderen Substratbeschichtungen angewendet, die Hauptanwendungsgebiete sind elektronische Leiterplatten.
Zeitpunkt der Veröffentlichung: 07.11.2022