1. Die Verdunstungsrate wirkt sich auf die Eigenschaften der verdampften Beschichtung aus
Die Verdampfungsrate hat großen Einfluss auf den abgeschiedenen Film.Da die durch eine niedrige Abscheidungsrate gebildete Beschichtungsstruktur locker ist und sich leicht große Partikelablagerungen erzeugen lassen, ist es sehr sicher, eine höhere Verdampfungsrate zu wählen, um die Kompaktheit der Beschichtungsstruktur sicherzustellen.Wenn der Druck des Restgases in der Vakuumkammer konstant ist, ist die Beschussrate des Substrats ein konstanter Wert.Daher wird das im abgeschiedenen Film enthaltene Restgas nach Auswahl einer höheren Abscheidungsrate reduziert, wodurch die chemische Reaktion zwischen den Restgasmolekülen und den verdampften Filmpartikeln verringert wird.Daher kann die Reinheit des abgeschiedenen Films verbessert werden.Es ist zu beachten, dass eine zu hohe Abscheidungsrate die innere Spannung des Films erhöhen, die Anzahl der Defekte im Film erhöhen und sogar zum Bruch des Films führen kann.Insbesondere beim reaktiven Verdampfungsplattieren kann eine niedrigere Abscheidungsrate gewählt werden, damit das Reaktionsgas vollständig mit den Partikeln des Verdampfungsfilmmaterials reagiert.Natürlich wählen unterschiedliche Materialien unterschiedliche Verdunstungsraten.Als praktisches Beispiel – die Abscheidung des reflektierenden Films: Wenn die Filmdicke 600×10-8 cm und die Verdampfungszeit 3 s beträgt, beträgt das Reflexionsvermögen 93 %.Wenn jedoch die Verdampfungsrate bei gleicher Dicke verlangsamt wird, dauert es 10 Minuten, bis die Filmabscheidung abgeschlossen ist.Zu diesem Zeitpunkt ist die Filmdicke gleich.Allerdings ist das Reflexionsvermögen auf 68 % gesunken.
2. Die Temperatur des Substrats wirkt sich auf die Verdampfungsbeschichtung aus
Die Untergrundtemperatur hat großen Einfluss auf die Aufdampfschicht.Die bei hoher Substrattemperatur an der Substratoberfläche adsorbierten Restgasmoleküle lassen sich leicht entfernen.Vor allem die Eliminierung von Wasserdampfmolekülen ist wichtiger.Darüber hinaus ist es bei höheren Temperaturen nicht nur einfach, den Übergang von der physikalischen Adsorption zur chemischen Adsorption zu fördern und so die Bindungskraft zwischen den Partikeln zu erhöhen.Darüber hinaus kann es auch den Unterschied zwischen der Rekristallisationstemperatur von Dampfmolekülen und der Substrattemperatur verringern und so die innere Spannung an der filmbasierten Grenzfläche verringern oder beseitigen.Da außerdem die Substrattemperatur mit dem kristallinen Zustand des Films zusammenhängt, ist es oft leicht, amorphe oder mikrokristalline Beschichtungen zu bilden, wenn die Substrattemperatur niedrig ist oder keine Erwärmung erfolgt.Im Gegenteil, wenn die Temperatur hoch ist, kann es leicht zur Bildung einer kristallinen Beschichtung kommen.Eine Erhöhung der Substrattemperatur trägt auch zur Verbesserung der mechanischen Eigenschaften der Beschichtung bei.Natürlich sollte die Untergrundtemperatur nicht zu hoch sein, um ein Verdunsten der Beschichtung zu verhindern.
3. Der Restgasdruck in der Vakuumkammer wirkt sich auf die Filmeigenschaften aus
Der Restgasdruck in der Vakuumkammer hat großen Einfluss auf die Leistung der Membran.Die Restgasmoleküle mit zu hohem Druck können nicht nur leicht mit den verdampfenden Partikeln kollidieren, was die kinetische Energie der Menschen auf dem Substrat verringert und die Haftung des Films beeinträchtigt.Darüber hinaus beeinträchtigt ein zu hoher Restgasdruck die Reinheit des Films erheblich und verringert die Leistung der Beschichtung.
4. Einfluss der Verdampfungstemperatur auf die Verdampfungsbeschichtung
Der Einfluss der Verdampfungstemperatur auf die Membranleistung wird durch die Änderung der Verdampfungsrate mit der Temperatur dargestellt.Wenn die Verdampfungstemperatur hoch ist, nimmt die Verdampfungswärme ab.Wenn das Membranmaterial oberhalb der Verdampfungstemperatur verdampft, kann bereits eine geringfügige Temperaturänderung zu einer starken Änderung der Verdampfungsgeschwindigkeit des Membranmaterials führen.Daher ist es sehr wichtig, die Verdampfungstemperatur während der Abscheidung des Films genau zu steuern, um große Temperaturgradienten beim Erhitzen der Verdampfungsquelle zu vermeiden.Für das leicht zu sublimierende Folienmaterial ist es auch sehr wichtig, das Material selbst als Heizung für die Verdampfung und andere Maßnahmen auszuwählen.
5. Der Reinigungszustand des Substrats und der Beschichtungskammer wirkt sich auf die Beschichtungsleistung aus
Der Einfluss der Sauberkeit des Substrats und der Beschichtungskammer auf die Leistung der Beschichtung ist nicht zu vernachlässigen.Dies beeinträchtigt nicht nur die Reinheit des abgeschiedenen Films erheblich, sondern verringert auch die Haftung des Films.Daher sind die Reinigung des Substrats, die Reinigungsbehandlung der Vakuumbeschichtungskammer und ihrer zugehörigen Komponenten (z. B. des Substratrahmens) sowie die Oberflächenentgasung unverzichtbare Prozesse im Vakuumbeschichtungsprozess.
Zeitpunkt der Veröffentlichung: 28. Februar 2023