Vakuum-Ionenplattieren (kurz Ionenplattieren) ist eine neue Oberflächenbehandlungstechnologie, die in den 1970er Jahren schnell entwickelt wurde und 1963 von DM Mattox von der Somdia Company in den Vereinigten Staaten vorgeschlagen wurde. Es bezieht sich auf den Prozess der Verwendung einer Verdampfungsquelle oder Sputtern Target zum Verdampfen oder Sputtern des Filmmaterials in der Vakuumatmosphäre.
Ersteres besteht darin, durch Erhitzen und Verdampfen des Filmmaterials Metalldampf zu erzeugen, der im Gasentladungsplasmaraum teilweise in Metalldampf und hochenergetische neutrale Atome ionisiert wird und durch die Wirkung des elektrischen Feldes das Substrat erreicht, um einen Film zu bilden ;Letzteres verwendet hochenergetische Ionen (z. B. Ar+), die die Oberfläche des Filmmaterials bombardieren, sodass die gesputterten Partikel durch den Raum der Gasentladung in Ionen oder hochenergetische neutrale Atome ionisiert werden und die Oberfläche des Substrats bilden einen Film bilden.
Dieser Artikel wurde von Guangdong Zhenhua veröffentlicht, einem Hersteller vonVakuumbeschichtungsanlagen
Zeitpunkt der Veröffentlichung: 10. März 2023