Καλώς ήρθατε στην Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
Νέα
-
Τεχνολογία εναπόθεσης χημικών ατμών πλάσματος με τόξο θερμού σύρματος
Η τεχνολογία εναπόθεσης χημικών ατμών πλάσματος ενισχυμένου τόξου θερμού σύρματος χρησιμοποιεί το πιστόλι τόξου θερμού σύρματος για την εκπομπή πλάσματος τόξου, που συντομεύεται ως τεχνολογία PECVD τόξου θερμού σύρματος.Αυτή η τεχνολογία είναι παρόμοια με την τεχνολογία επίστρωσης ιόντων με πιστόλι τόξου θερμού σύρματος, αλλά η διαφορά είναι ότι η στερεή μεμβράνη που λαμβάνεται από την...Διαβάστε περισσότερα -
Εισαγωγή στις Συμβατικές Τεχνικές Εναπόθεσης Σκληρών Επιστρώσεων
1. Θερμική τεχνολογία CVD Οι σκληρές επικαλύψεις είναι κυρίως μεταλλοκεραμικές επικαλύψεις (TiN, κ.λπ.), οι οποίες σχηματίζονται από την αντίδραση του μετάλλου στην επίστρωση και την αντιδραστική αεριοποίηση.Αρχικά, η θερμική τεχνολογία CVD χρησιμοποιήθηκε για την παροχή της ενέργειας ενεργοποίησης της συνδυαστικής αντίδρασης με θερμική ενέργεια σε ένα ...Διαβάστε περισσότερα -
Τι είναι η επίστρωση πηγής εξάτμισης αντίστασης;
Η επίστρωση πηγής εξάτμισης με αντίσταση είναι μια βασική μέθοδος επίστρωσης εξάτμισης υπό κενό.Η «εξάτμιση» αναφέρεται σε μια μέθοδο παρασκευής λεπτής μεμβράνης κατά την οποία το υλικό επικάλυψης στον θάλαμο κενού θερμαίνεται και εξατμίζεται, έτσι ώστε τα άτομα ή τα μόρια του υλικού να εξατμίζονται και να διαφεύγουν από το...Διαβάστε περισσότερα -
Εισαγωγή στην τεχνολογία επιμετάλλωσης ιόντων καθοδικού τόξου
Η τεχνολογία επικάλυψης με καθοδικό τόξο ιόντων χρησιμοποιεί τεχνολογία εκκένωσης τόξου ψυχρού πεδίου.Η παλαιότερη εφαρμογή της τεχνολογίας εκκένωσης τόξου ψυχρού πεδίου στον τομέα της επίστρωσης έγινε από την Multi Arc Company στις Ηνωμένες Πολιτείες.Η αγγλική ονομασία αυτής της διαδικασίας είναι arc ionplating (AIP).Επικάλυψη ιόντων τόξου καθόδου...Διαβάστε περισσότερα -
Η εφαρμογή της οπτικής λεπτής μεμβράνης στη βιομηχανία επικαλυμμένων γυαλιών
Υπάρχουν πολλοί τύποι υποστρωμάτων για γυαλιά και φακούς, όπως CR39, PC (πολυκαρβονικό), 1,53 Trivex156, πλαστικό μεσαίου δείκτη διάθλασης, γυαλί κ.λπ. Για διορθωτικούς φακούς, η διαπερατότητα τόσο των φακών από ρητίνη όσο και των γυάλινων φακών είναι μόνο περίπου 91%. και μέρος του φωτός αντανακλάται πίσω από τα δύο...Διαβάστε περισσότερα -
Χαρακτηριστικά της μηχανής επίστρωσης κενού
1.Η μεμβράνη της επίστρωσης κενού είναι πολύ λεπτή (κανονικά 0,01-0,1um)|2. Η επίστρωση κενού μπορεί να χρησιμοποιηθεί για πολλά πλαστικά, όπως ABS﹑PE﹑PP﹑PVC﹑PA﹑PC﹑PMMA, κ.λπ. 3. Η θερμοκρασία σχηματισμού φιλμ είναι χαμηλή.Στη βιομηχανία σιδήρου και χάλυβα, η θερμοκρασία επίστρωσης του θερμού γαλβανισμού είναι γενικά μεταξύ 400 ℃ a...Διαβάστε περισσότερα -
Εισαγωγή στην τεχνολογία ηλιακών φωτοβολταϊκών λεπτών φιλμ
Μετά την ανακάλυψη του φωτοβολταϊκού φαινομένου στην Ευρώπη το 1863, οι Ηνωμένες Πολιτείες κατασκεύασαν το πρώτο φωτοβολταϊκό στοιχείο με (Se) το 1883. Τις πρώτες μέρες, τα φωτοβολταϊκά κύτταρα χρησιμοποιούνταν κυρίως στην αεροδιαστημική, στο στρατιωτικό και σε άλλους τομείς.Τα τελευταία 20 χρόνια, η απότομη πτώση του κόστους των φωτοβολτα...Διαβάστε περισσότερα -
Ροή διαδικασίας της μηχανής επίστρωσης με ψεκασμό
1. Υπόστρωμα καθαρισμού βομβαρδισμού 1.1) Το μηχάνημα επικάλυψης με εκτόξευση χρησιμοποιεί εκκένωση λάμψης για να καθαρίσει το υπόστρωμα.Δηλαδή, φορτίστε το αέριο αργό στον θάλαμο, η τάση εκκένωσης είναι περίπου 1000 V, Μετά την ενεργοποίηση της τροφοδοσίας, δημιουργείται εκκένωση λάμψης και το υπόστρωμα καθαρίζεται με ...Διαβάστε περισσότερα -
Εφαρμογή οπτικού φιλμ σε προϊόντα κινητής τηλεφωνίας
Η εφαρμογή οπτικών λεπτών μεμβρανών σε ηλεκτρονικά προϊόντα ευρείας κατανάλωσης όπως τα κινητά τηλέφωνα έχει μετατοπιστεί από τους παραδοσιακούς φακούς κάμερας σε μια διαφοροποιημένη κατεύθυνση, όπως φακοί κάμερας, προστατευτικά φακών, φίλτρα αποκοπής υπέρυθρων (IR-CUT) και επίστρωση NCVM στα καλύμματα μπαταριών κινητών τηλεφώνων .Ταχύτητα κάμερας...Διαβάστε περισσότερα -
Χαρακτηριστικά εξοπλισμού επίστρωσης CVD
Η τεχνολογία επικάλυψης CVD έχει τα ακόλουθα χαρακτηριστικά: 1. Η λειτουργία της διαδικασίας του εξοπλισμού CVD είναι σχετικά απλή και ευέλικτη και μπορεί να παρασκευάσει μεμονωμένες ή σύνθετες μεμβράνες και μεμβράνες κραμάτων με διαφορετικές αναλογίες.2. Η επίστρωση CVD έχει ένα ευρύ φάσμα εφαρμογών και μπορεί να χρησιμοποιηθεί για προ...Διαβάστε περισσότερα -
Ποιες είναι οι διαδικασίες της μηχανής επίστρωσης κενού;Ποια είναι η αρχή λειτουργίας;
Η διαδικασία της μηχανής επίστρωσης κενού χωρίζεται σε: επίστρωση εξάτμισης κενού, επίστρωση με ψεκασμό κενού και επίστρωση ιόντων κενού.1,Επίστρωση εξάτμισης υπό κενό Υπό συνθήκες κενού, εξατμίστε το υλικό, όπως το μέταλλο, το κράμα μετάλλων κ.λπ. και στη συνέχεια τοποθετήστε τα στην επιφάνεια του υποστρώματος...Διαβάστε περισσότερα -
Σε τι χρησιμεύει το μηχάνημα κενού;
1, Τι είναι η διαδικασία επίστρωσης κενού;Ποια είναι η λειτουργία;Η λεγόμενη διαδικασία επίστρωσης κενού χρησιμοποιεί εξάτμιση και ψεκασμό σε περιβάλλον κενού για την εκπομπή σωματιδίων υλικού μεμβράνης, που εναποτίθεται σε μέταλλο, γυαλί, κεραμικά, ημιαγωγούς και πλαστικά μέρη για να σχηματίσει ένα στρώμα επίστρωσης, για διακόσμηση...Διαβάστε περισσότερα -
Περιβαλλοντικές απαιτήσεις για εξοπλισμό επίστρωσης κενού
Εφόσον ο εξοπλισμός επίστρωσης κενού λειτουργεί υπό συνθήκες κενού, ο εξοπλισμός πρέπει να πληροί τις απαιτήσεις κενού για το περιβάλλον.Τα βιομηχανικά πρότυπα για διάφορους τύπους εξοπλισμού επίστρωσης κενού που έχουν διαμορφωθεί στη χώρα μου (συμπεριλαμβανομένων των γενικών τεχνικών προϋποθέσεων για εξοπλισμό επίστρωσης κενού,...Διαβάστε περισσότερα -
Τα χαρακτηριστικά και η εφαρμογή της ιοντικής επίστρωσης
Τύπος φιλμ Υλικό μεμβράνης Υπόστρωμα Χαρακτηριστικά και εφαρμογή μεμβράνης Μεταλλικό φιλμ CrAI, ZnPtNi Au, Cu, AI P, Au Au, W, Ti, Ta Ag, Au, AI, Pt χάλυβας, μαλακός χάλυβας Κράμα τιτανίου, χάλυβας υψηλής περιεκτικότητας σε άνθρακα, μαλακός χάλυβας σκληρό γυαλί τιτάνιο πλαστικό νικέλιο, χάλυβας Inconel, σιλικόνη από ανοξείδωτο χάλυβα Αντι-φθορά ...Διαβάστε περισσότερα -
Επικάλυψη ιόντων κενού και η ταξινόμηση της
Η επιμετάλλωση ιόντων κενού (ιονική επιμετάλλωση για συντομία) είναι μια νέα τεχνολογία επεξεργασίας επιφανειών που αναπτύχθηκε γρήγορα στη δεκαετία του 1970, η οποία προτάθηκε από τον DM Mattox της Somdia Company στις Ηνωμένες Πολιτείες το 1963. Αναφέρεται στη διαδικασία χρήσης πηγής εξάτμισης ή εκτόξευσης στόχος να εξατμιστεί ή να σπάσει...Διαβάστε περισσότερα
