Η επιμετάλλωση ιόντων κενού (ιονική επιμετάλλωση για συντομία) είναι μια νέα τεχνολογία επεξεργασίας επιφανειών που αναπτύχθηκε ταχέως στη δεκαετία του 1970, η οποία προτάθηκε από τον DM Mattox της Somdia Company στις Ηνωμένες Πολιτείες το 1963. Αναφέρεται στη διαδικασία χρήσης πηγής εξάτμισης ή εκτόξευσης στόχο να εξατμισθεί ή να διασκορπιστεί το υλικό μεμβράνης στην ατμόσφαιρα κενού.
Ο πρώτος είναι να παράγει μεταλλικούς ατμούς με θέρμανση και εξάτμιση του υλικού μεμβράνης, το οποίο ιονίζεται μερικώς σε ατμό μετάλλου και ουδέτερα άτομα υψηλής ενέργειας στον χώρο του πλάσματος εκκένωσης αερίου και φτάνει στο υπόστρωμα για να σχηματίσει ένα φιλμ μέσω της δράσης του ηλεκτρικού πεδίου. ;ο τελευταίος χρησιμοποιεί ιόντα υψηλής ενέργειας (για παράδειγμα, Ar+) βομβαρδίζει την επιφάνεια του υλικού μεμβράνης έτσι ώστε τα διασκορπισμένα σωματίδια να ιονίζονται σε ιόντα ή ουδέτερα άτομα υψηλής ενέργειας μέσω του χώρου της εκκένωσης αερίου και να αντιληφθούν την επιφάνεια του υποστρώματος να σχηματίσουν μια ταινία.
Αυτό το άρθρο δημοσιεύεται από την Guangdong Zhenhua, κατασκευαστή τουεξοπλισμός επίστρωσης κενού
Ώρα δημοσίευσης: Mar-10-2023