οεπίστρωση κενούΗ διαδικασία της μηχανής χωρίζεται σε: επίστρωση εξάτμισης κενού, επίστρωση ψεκασμού κενού και επίστρωση ιόντων κενού.
1, Επίστρωση εξάτμισης κενού
Υπό συνθήκες κενού, κάντε το υλικό να εξατμιστεί, όπως το μέταλλο, το κράμα μετάλλων κ.λπ., στη συνέχεια αποθέστε τα στην επιφάνεια του υποστρώματος, η μέθοδος επίστρωσης με εξάτμιση είναι συχνά χρήση θέρμανσης με αντίσταση και, στη συνέχεια, βομβαρδισμός με δέσμη ηλεκτρονίων του υλικού επικάλυψης, κάντε τα εξατμίζεται σε αέρια φάση και στη συνέχεια εναποτίθεται στην επιφάνεια του υποστρώματος, ιστορικά, η εναπόθεση ατμών υπό κενό είναι η παλαιότερη τεχνολογία που χρησιμοποιείται στη μέθοδο PVD.
2, Επικάλυψη με ψεκασμό
Το αέριο υπόκειται σε εκκένωση λάμψης υπό συνθήκες κενού γεμάτες (Ar) Αυτή τη στιγμή τα άτομα αργού (Ar) μετατρέπονται σε ιόντα αζώτου (Ar), τα ιόντα επιταχύνονται από τη δύναμη του ηλεκτρικού πεδίου και βομβαρδίζουν τον στόχο της καθόδου που είναι κατασκευασμένο από το υλικό επίστρωσης, ο στόχος θα διασκορπιστεί και θα εναποτεθεί στην επιφάνεια του υποστρώματος Τα ιόντα πρόσπτωσης στην επίστρωση διασκορπισμού, που λαμβάνονται γενικά με εκκένωση λάμψης, είναι στην περιοχή από 10-2pa έως 10Pa. Έτσι τα διασκορπισμένα σωματίδια είναι εύκολο να συγκρούονται με τα μόρια αερίου στον θάλαμο κενού όταν πετούν προς το υπόστρωμα, καθιστώντας την κατεύθυνση της κίνησης τυχαία και το εναποτιθέμενο φιλμ εύκολο να είναι ομοιόμορφο.
3, Επικάλυψη ιόντων
Υπό συνθήκες κενού, Υπό συνθήκες κενού, Χρησιμοποίησε μια συγκεκριμένη τεχνική ιονισμού πλάσματος για να ιονίσει μερικώς τα άτομα του υλικού επικάλυψης σε ιόντα. Ταυτόχρονα παράγονται πολλά ουδέτερα άτομα υψηλής ενέργειας, τα οποία πολώνονται αρνητικά στο υπόστρωμα. Με αυτόν τον τρόπο, ιόντα εναποτίθενται στην επιφάνεια του υποστρώματος κάτω από μια βαθιά αρνητική προκατάληψη για να σχηματίσουν ένα λεπτό φιλμ.
Ώρα δημοσίευσης: Μαρ-23-2023