1. Tecnología CVD térmica
Los recubrimientos duros son en su mayoría recubrimientos cerámicos metálicos (TiN, etc.), que se forman por la reacción del metal en el recubrimiento y la gasificación reactiva.Al principio, la tecnología CVD térmica se utilizó para proporcionar la energía de activación de la reacción combinada mediante energía térmica a una temperatura alta de 1000 ℃.Esta temperatura solo es adecuada para depositar TiN y otros recubrimientos duros en herramientas de carburo cementado.Hasta el momento, sigue siendo una tecnología importante para depositar recubrimientos compuestos de TiN-Al20 en cabezales de herramientas de carburo cementado.
2. Recubrimiento de iones de cátodo hueco y recubrimiento de iones de arco de alambre caliente
En la década de 1980, el recubrimiento de iones de cátodo hueco y el recubrimiento de iones de arco de alambre caliente se utilizaron para depositar herramientas de corte recubiertas.Ambas tecnologías de recubrimiento de iones son tecnologías de recubrimiento de iones de descarga de arco, con una tasa de ionización de metales de hasta 20% ~ 40%.
3. Recubrimiento de iones de arco catódico
La aparición del recubrimiento de iones de arco catódico ha llevado al desarrollo de la tecnología de depósito de recubrimientos duros en moldes.La tasa de ionización del recubrimiento de iones de arco catódico es del 60 % al 90 %, lo que permite que una gran cantidad de iones metálicos e iones de gas de reacción lleguen a la superficie de la pieza de trabajo y aún mantengan una alta actividad, lo que da como resultado la deposición de reacción y la formación de recubrimientos duros como Estaño.En la actualidad, la tecnología de revestimiento de iones de arco catódico se utiliza principalmente para depositar revestimientos duros en moldes.
La fuente de arco de cátodo es una fuente de evaporación de estado sólido sin un baño de fusión fijo, y la posición de la fuente de arco puede colocarse arbitrariamente, lo que mejora la tasa de utilización del espacio de la sala de recubrimiento y aumenta la capacidad de carga del horno.Las formas de las fuentes de arco catódico incluyen fuentes de arco catódico circulares pequeñas, fuentes de arco columnar y fuentes de arco grande plano rectangular.Los diferentes componentes de fuentes de arco pequeño, fuentes de arco en columna y fuentes de arco grande se pueden organizar por separado para depositar películas multicapa y nanopelículas multicapa.Mientras tanto, debido a la alta tasa de ionización de metales del recubrimiento de iones de arco catódico, los iones metálicos pueden absorber más gases de reacción, lo que da como resultado una amplia gama de procesos y una operación simple para obtener excelentes recubrimientos duros.Sin embargo, hay gotitas gruesas en la microestructura de la capa de recubrimiento obtenida por recubrimiento de iones de arco catódico.En los últimos años, han surgido muchas tecnologías nuevas para refinar la estructura de la capa de la película, lo que ha mejorado la calidad de la película de recubrimiento de iones de arco.
——Este artículo fue publicado por Guangdong Zhenhua Technology, unafabricante de máquinas de revestimiento óptico.
Hora de publicación: 28-abr-2023