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Noticias de la Industria
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Proceso de recubrimiento de iones de cátodo hueco.
El proceso de recubrimiento de iones de cátodo hueco es el siguiente: 1 、 Coloque los lingotes Chin en el colapso.2, Montaje de la pieza de trabajo.3、Después de evacuar a 5×10-3Pa, se introduce gas argón en la cámara de recubrimiento desde el tubo de plata y el nivel de vacío es de alrededor de 100Pa.4, encienda la potencia de polarización.5...Leer más -
Lucrativo mercado de equipos de recubrimiento óptico: demostrando un enorme potencial de ventas
La industria de recubrimientos ópticos ha experimentado un crecimiento significativo a lo largo de los años debido a los avances tecnológicos, la creciente demanda de óptica de alto rendimiento y la rápida industrialización.Por lo tanto, el mercado global de equipos de recubrimiento óptico está en auge, creando enormes oportunidades para las empresas en...Leer más -
Análisis de las ventajas y desventajas de la evaporación por haz de electrones
Introducción: En el campo de la tecnología de deposición de películas delgadas, la evaporación por haz de electrones es un método importante utilizado en varias industrias para producir películas delgadas de alta calidad.Sus propiedades únicas y su precisión inigualable lo convierten en una opción atractiva para investigadores y fabricantes.Sin embargo, como un...Leer más -
Deposición asistida por haz de iones y fuente de iones de baja energía
1. La deposición asistida por haz de iones utiliza principalmente haces de iones de baja energía para ayudar en la modificación de la superficie de los materiales.(1) Características de la deposición asistida por iones Durante el proceso de recubrimiento, las partículas de película depositadas son bombardeadas continuamente por iones cargados de la fuente de iones en la superficie de...Leer más -
Color de la película decorativa.
La propia película refleja o absorbe selectivamente la luz incidente y su color es el resultado de las propiedades ópticas de la película.El color de las películas delgadas es generado por la luz reflejada, por lo que se deben considerar dos aspectos, a saber, el color intrínseco generado por las características de absorción...Leer más -
Introducción del principio PVD
Introducción: En el mundo de la ingeniería de superficies avanzada, la deposición física de vapor (PVD) surge como un método de referencia para mejorar el rendimiento y la durabilidad de varios materiales.¿Alguna vez te has preguntado cómo funciona esta técnica de vanguardia?Hoy profundizamos en la intrincada mecánica de P...Leer más -
Tecnología de recubrimiento óptico: efectos visuales mejorados
En el mundo acelerado de hoy, donde el contenido visual tiene mucha influencia, la tecnología de recubrimiento óptico juega un papel importante en la mejora de la calidad de varias pantallas.Desde teléfonos inteligentes hasta pantallas de TV, los recubrimientos ópticos han revolucionado la forma en que percibimos y experimentamos el contenido visual....Leer más -
Mejora del recubrimiento de pulverización catódica con magnetrón con fuente de alimentación de descarga de arco
El recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón se lleva a cabo en descarga luminiscente, con baja densidad de corriente de descarga y baja densidad de plasma en la cámara de recubrimiento.Esto hace que la tecnología de pulverización catódica con magnetrón tenga desventajas, como una baja fuerza de unión del sustrato de la película, una baja tasa de ionización del metal y una baja tasa de deposición.Leer más -
Utilización de la descarga de RF
1. Beneficioso para pulverizar y enchapar películas aislantes.El cambio rápido en la polaridad del electrodo se puede usar para pulverizar directamente objetivos aislantes para obtener películas aislantes.Si se utiliza una fuente de alimentación de CC para pulverizar y depositar una película de aislamiento, la película de aislamiento bloqueará la entrada de iones positivos...Leer más -
Tratamiento térmico químico iónico a baja temperatura
1. Temperatura del tratamiento térmico químico tradicional Los procesos de tratamiento térmico químico tradicionales comunes incluyen cementación y nitruración, y la temperatura del proceso se determina de acuerdo con el diagrama de fase Fe-C y el diagrama de fase Fe-N.La temperatura de cementación es de aproximadamente 930 °C, y la...Leer más -
Características técnicas del recubrimiento por evaporación al vacío
1. El proceso de recubrimiento por evaporación al vacío incluye la evaporación de materiales de película, el transporte de átomos de vapor en alto vacío y el proceso de nucleación y crecimiento de átomos de vapor en la superficie de la pieza de trabajo.2. El grado de vacío de deposición del revestimiento de evaporación al vacío es alto, generalmente ...Leer más -
Tipos de recubrimientos duros
TiN es el primer recubrimiento duro utilizado en herramientas de corte, con ventajas como alta resistencia, alta dureza y resistencia al desgaste.Es el primer material de recubrimiento duro industrializado y ampliamente utilizado, ampliamente utilizado en herramientas recubiertas y moldes recubiertos.El revestimiento duro de TiN se depositó inicialmente a 1000 ℃...Leer más -
Características de la modificación de la superficie de plasma
El plasma de alta energía puede bombardear e irradiar materiales poliméricos, rompiendo sus cadenas moleculares, formando grupos activos, aumentando la energía superficial y generando grabado.El tratamiento de superficie con plasma no afecta la estructura interna ni el rendimiento del material a granel, pero solo modifica significativamente...Leer más -
El proceso de recubrimiento de iones de fuente de arco pequeño
El proceso de recubrimiento de iones con fuente de arco catódico es básicamente el mismo que el de otras tecnologías de recubrimiento, y algunas operaciones, como la instalación de piezas de trabajo y la aspiración, ya no se repiten.1. Limpieza por bombardeo de piezas de trabajo Antes del recubrimiento, se introduce gas argón en la cámara de recubrimiento con un...Leer más -
Características y métodos de generación del flujo de electrones de arco
1. Características del flujo de electrones de luz de arco La densidad del flujo de electrones, el flujo de iones y los átomos neutros de alta energía en el plasma de arco generado por la descarga de arco es mucho mayor que la de la descarga luminiscente.Hay más iones de gas e iones metálicos ionizados, átomos excitados de alta energía y varios grupos activos...Leer más
