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Noticias de la industria

  • Tipos de recubrimientos duros

    Tipos de recubrimientos duros

    El TiN fue el primer recubrimiento duro utilizado en herramientas de corte, con ventajas como alta resistencia, dureza y resistencia al desgaste. Es el primer material de recubrimiento duro industrializado y ampliamente utilizado, ampliamente utilizado en herramientas y moldes recubiertos. El recubrimiento duro de TiN se depositó inicialmente a 1000 °C...
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  • Características de la modificación de la superficie del plasma

    Características de la modificación de la superficie del plasma

    El plasma de alta energía puede bombardear e irradiar materiales poliméricos, rompiendo sus cadenas moleculares, formando grupos activos, aumentando la energía superficial y generando grabado. El tratamiento superficial con plasma no afecta la estructura interna ni el rendimiento del material, sino que solo reduce significativamente...
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  • El proceso de recubrimiento iónico con fuente de arco pequeño

    El proceso de recubrimiento iónico con fuente de arco pequeño

    El proceso de recubrimiento iónico con fuente de arco catódico es básicamente el mismo que otras tecnologías de recubrimiento, y algunas operaciones como la instalación de piezas de trabajo y la aspiración ya no se repiten. 1. Limpieza por bombardeo de piezas de trabajo Antes del recubrimiento, se introduce gas argón en la cámara de recubrimiento con un...
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  • Características y métodos de generación del flujo de electrones de arco

    Características y métodos de generación del flujo de electrones de arco

    1. Características del flujo de electrones de la luz de arco. La densidad del flujo de electrones, el flujo de iones y los átomos neutros de alta energía en el plasma de arco generado por la descarga de arco es mucho mayor que la de la descarga luminiscente. Hay más iones de gas y de metal ionizados, átomos de alta energía excitados y diversos grupos activos...
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  • Campos de aplicación de la modificación de superficies por plasma

    Campos de aplicación de la modificación de superficies por plasma

    1) La modificación superficial con plasma se refiere principalmente a ciertas modificaciones de papel, películas orgánicas, textiles y fibras químicas. El uso de plasma para la modificación textil no requiere el uso de activadores y el proceso de tratamiento no daña las características de las propias fibras.
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  • Aplicación del recubrimiento iónico en el campo de las películas delgadas ópticas

    Aplicación del recubrimiento iónico en el campo de las películas delgadas ópticas

    La aplicación de las películas delgadas ópticas es muy amplia, y abarca desde gafas, lentes de cámaras, cámaras de teléfonos móviles, pantallas LCD para teléfonos móviles, computadoras y televisores, iluminación LED, dispositivos biométricos, hasta ventanas de ahorro de energía en automóviles y edificios, así como instrumentos médicos, te...
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  • Películas de visualización de información y tecnología de recubrimiento iónico

    Películas de visualización de información y tecnología de recubrimiento iónico

    1. Tipo de película en la pantalla de información. Además de las películas delgadas TFT-LCD y OLED, la pantalla de información también incluye películas de electrodos de cableado y películas de electrodos de píxeles transparentes en el panel. El proceso de recubrimiento es el proceso principal de las pantallas TFT-LCD y OLED. Con el proceso continuo...
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  • La ley de crecimiento de la capa de película de recubrimiento por evaporación al vacío

    La ley de crecimiento de la capa de película de recubrimiento por evaporación al vacío

    Durante el recubrimiento por evaporación, la nucleación y el crecimiento de la capa de película son la base de varias tecnologías de recubrimiento iónico 1.Nucleación En la tecnología de recubrimiento por evaporación al vacío, después de que las partículas de la capa de película se evaporan de la fuente de evaporación en forma de átomos, vuelan directamente al w...
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  • Características comunes de la tecnología de recubrimiento iónico por descarga luminiscente mejorada

    Características comunes de la tecnología de recubrimiento iónico por descarga luminiscente mejorada

    1. La polarización de la pieza de trabajo es baja. Gracias a la adición de un dispositivo para aumentar la tasa de ionización, la densidad de corriente de descarga aumenta y la tensión de polarización se reduce a 0,5-1 kV. La retropulverización causada por el bombardeo excesivo de iones de alta energía y el daño a la superficie de la pieza de trabajo...
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  • Ventajas de los objetivos cilíndricos

    Ventajas de los objetivos cilíndricos

    1) Los objetivos cilíndricos tienen una mayor tasa de utilización que los objetivos planos. Durante el proceso de recubrimiento, ya sea un objetivo de pulverización catódica cilíndrica de tipo magnético rotatorio o de tipo tubo rotatorio, toda la superficie del tubo del objetivo pasa continuamente por el área de pulverización generada frente a...
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  • Proceso de polimerización directa por plasma

    Proceso de polimerización directa por plasma

    Proceso de polimerización directa por plasma El proceso de polimerización por plasma es relativamente simple tanto para los equipos de polimerización por electrodos internos como para los equipos de polimerización por electrodos externos, pero la selección de parámetros es más importante en la polimerización por plasma, porque los parámetros tienen una mayor...
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  • Tecnología de deposición química de vapor por plasma mejorada con arco de alambre caliente

    Tecnología de deposición química de vapor por plasma mejorada con arco de alambre caliente

    La tecnología de deposición química en fase de vapor con plasma mejorado por arco de hilo caliente utiliza una pistola de arco de hilo caliente para emitir plasma de arco. Esta tecnología, abreviada como tecnología PECVD por arco de hilo caliente, es similar a la tecnología de recubrimiento iónico con pistola de arco de hilo caliente, pero la diferencia radica en que la película sólida obtenida...
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  • Introducción a las técnicas convencionales para la deposición de recubrimientos duros

    Introducción a las técnicas convencionales para la deposición de recubrimientos duros

    1. Tecnología de CVD térmica. Los recubrimientos duros son principalmente recubrimientos metalocerámicos (TiN, etc.), que se forman mediante la reacción del metal en el recubrimiento y la gasificación reactiva. Inicialmente, la tecnología de CVD térmica se utilizó para proporcionar la energía de activación de la reacción de combinación mediante energía térmica a...
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  • ¿Qué es el recubrimiento de fuente de evaporación resistente?

    ¿Qué es el recubrimiento de fuente de evaporación resistente?

    El recubrimiento por evaporación por resistencia es un método básico de recubrimiento por evaporación al vacío. La evaporación se refiere a un método de preparación de película delgada en el que el material de recubrimiento se calienta y se evapora en la cámara de vacío, de modo que los átomos o moléculas del material se vaporizan y escapan de la...
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  • Introducción a la tecnología de recubrimiento iónico por arco catódico

    Introducción a la tecnología de recubrimiento iónico por arco catódico

    La tecnología de recubrimiento por arco iónico catódico utiliza tecnología de descarga de arco de campo frío. La primera aplicación de esta tecnología en el campo del recubrimiento la realizó Multi Arc Company en Estados Unidos. El nombre en inglés de este procedimiento es "arco iónico" (AIP). El recubrimiento por arco iónico catódico...
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